| 主权项 |
1.一种照明系统,以来自一光源之光线加以照射要 照射之表面,其特征为: 一第一反射式整合器; 一第一聚光镜系统,该系统是使来自该第一反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之 表面上; 一第二反射式整合器,该整合器是布置在光源和该 第一反射式整合器之间;以及 一第二聚光镜系统,该系统是使来自该第二反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在该第一反 射式整合器上。2.如申请专利范围第1项之照明系 统,其中,该第一反射式整合器具有由各为一圆柱 形表面一部位之区段所界定之反射表面,该区段被 布置成实质上为彼此平行,使得要照射表面上之照 明区为弧形。3.如申请专利范围第1项之照明系统, 其中,该第二反射式整合器具有由各为一圆柱形表 面一部位之区段所界定之反射表面,该区段被布置 成实质上为彼此平行,且其中,在该第一和第二反 射式整合器中之圆柱形表面动线实质上为彼此垂 直。4.如申请专利范围第2项之照明系统,其中,该 第二反射式整合器具有由各为一球形表面一部位 之区段所界定之反射表面,该区段被布置成二度空 间。5.如申请专利范围第2项之照明系统,其中,圆 柱形表面为凸面形、凹面形和凹凸面形组合形中 之一种形状。6.如申请专利范围第1项之照明系统, 其中,将该照明系统建构成使得要照射之表面是以 关于子午线部位之关键亮度加以照射,而关于矢形 部位则以库勒照明加以照射。7.如申请专利范围 第1项之照明系统,其中更包含(i)一挡板,该挡板被 布置在该第一聚光镜系统和要照射之表面之间,并 具一光圈,加以界定要照射之表面上的一照明区, 以及(ii)一反射光学系统,该系统利用通过该光圈 之光线,使该挡板之该光圈成像在要照射之表面上 。8.如申请专利范围第7项之照明系统,其中更包含 一调整单元,以偏心及/或旋转方式移动该反射光 学系统中之至少一镜片,因此加以调整影响要照射 表面之光线的入射角。9.如申请专利范围第1项之 照明系统,其中更包含一具有一光圈之挡板,用以 界定要照射表面上之一照明区。10.如申请专利范 围第1项之照明系统,其中更包含一调整单元,以偏 心及/或旋转方式移动该第一聚光镜系统中之至少 一镜片,因此加以调整影响要照射表面之光线的入 射角。11.一种照明系统,用以照射一要照射之表面 的照明系统,其特征为: 一镜片系统,该系统用以将来自光源之光线导向要 照射之表面;以及 一调整单元,该单元以偏心及/或旋转方式移动该 镜片系统中至少一镜片,因此加以调整影响要照射 表面光线之入射角。12.一种照明系统,以来自一光 源之光线加以照射要照射之表面,其特征为: 一第一反射式整合器; 一第一光学系统,该系统将来自光源之光线投射在 该第一反射式整合器上面;以及 一第二光学系统,该系统是使来自该第一反射式整 合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表 面上; 其中,该第一光学系统包含一变更单元,该单元是 用以改变影响该第一反射式整合器之光源直径及/ 或形状。13.如申请专利范围第12项之照明系统,其 中,让变更单元包含至于光圈形状及/或大小彼此 不同之衆多挡板,及一驱动系统,该系统将该挡板 之一选择性地置放在或近邻该第一反射式整合器 之反射表面。14.如申请专利范围第13项之照明系 统,其中,使各光圈形状沿投射在该第一反射式整 合器上光线之X射平面之方向加以伸长。15.如申请 专利范围第12项之照明系统,其中,变更单元包含(i) 一第二反射式整合器,一聚光镜系统,用以使自该 第二反射式整合器之光束成一光束重叠另一光束 在该第一反射式整合器上,以及(ii)一挡板,该挡板 具一可变光圈直径,且被布置在或近邻该第二反射 式整合器之反射表面。16.如申请专利范围第12项 之照明系统,其中,该变更单元包含(i)衆多第二反 射式整合器,该整合器彼此具不同所放射光线之放 射角,(ii)一聚光镜系统,用以使来自该第二反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在该第一反 射式整合器上,以及(iii)一驱动系统,用以将该第二 反射式整合器其中之一选择性地置放在来自光源 之光源路径上。17.如申请专利范围第16项之照明 系统,其中更包含一具有可变光圈之挡板且该挡板 被布置在或近邻该第二反射式整合器之反射表面 。18.一种照明系统,以来自一光源之光线加以照射 要照射之表面,其特征为: 一第一反射式整合器,该整合器有一布置在一瞳孔 位置之反射表面; 一第一光学系统,用以将来自光源之光线歪斜地投 射在该第一反射式整合器之上面; 一第二光学系统,用以使来自该第一反射式整合器 之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表面上; 以及 一挡板,该挡板被布置在或近邻该第一反射式整合 器之反射表面,该挡板光圈形状沿歪斜地投射在该 第一反射式整合器上光线之入射平面之方向加以 伸长。19.如申请专利范围第18项之照明系统,其中 之形状在要照射之表面上之一照明区实施变形照 射是有效的。20.如申请专利范围第18项之照明系 统,其中之形状像是环状。21.如申请专利范围第18 项之照明系统,其中之形状为四重极形。22.如申请 专利范围第1-21项中任一项之照明系统,其中,来自 光源之光线波长不大于20nm。23.一种曝光设备,使 用照明系统加以照射形成在一网线或光罩上之图 案,以及使用一投影光学系统将该图案投射在一工 件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器; 一第一聚光镜系统,该系统是使来自该第一反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之 表面上; 一第二反射式整合器,该整合器是布置在光源和该 第一反射式整合器之间;以及 一第二聚光镜系统,该系统是使来自该第二反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在该第一反 射式整合器上。24.一种设有要曝光的图案的装置 之制造方法,该方法包含使用曝光设备以使具有装 置图案之工件曝光的步骤,以及对曝光的工件实施 预定程序之步骤, 其中,该曝光设备使用照明系统加以照射形成在一 网线或光罩上之图案,以及使用一投影光学系统将 该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器; 一第一聚光镜系统,该系统是使来自该第一反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之 表面上; 一第二反射式整合器,该整合器是布置在光源和该 第一反射式整合器之间;以及 一第二聚光镜系统,该系统是使来自该第二反射式 整合器之光束成一光束重叠另一光束在该第一反 射式整合器上。25.一种曝光设备,使用照明系统加 以照射形成在一网线或光罩上之图案,以及使用一 投影光学系统将该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统用于照射要照射的表面,且其特 征在于: 一镜片系统,该系统用以将来自光源之光线导向要 照射之表面;以及 一调整单元,该单元以偏心及/或旋转方式移动该 镜片系统中至少一镜片,因此加以调整影响要照射 表面光线之入射角。26.一种曝光设备,使用照明系 统加以照射形成在一网线或光罩上之图案,以及使 用一投影光学系统将该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器; 一第一光学系统,该系统将来自光源之光线投射在 该第一反射式整合器上面;以及 一第二光学系统,该系统是使来自该第一反射式整 合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表 面上; 其中,该第一光学系统包含一变更单元,该单元是 用以改变影响该第一反射式整合器之光源直径及/ 或形状。27.一种曝光设备,使用照明系统加以照射 形成在一网线或光罩上之图案,以及使用一投影光 学系统将该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器,该整合器有一布置在一瞳孔 位置之反射表面; 一第一光学系统,用以将来自光源之光线歪斜地投 射在该第一反射式整合器之上面; 一第二光学系统,用以使来自该第一反射式整合器 之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表面上; 以及 一挡板,该挡板被布置在或近邻该第一反射式整合 器之反射表面,该挡板光圈形状沿歪斜地投射在该 第一反射式整合器上光线之入射平面之方向加以 伸长。28.一种设有要曝光的图案的装置之制造方 法,该方法包含使用曝光设备以使具有装置图案之 工件曝光的步骤,以及对曝光的工件实施预定程序 之步骤, 其中,该曝光设备使用照明系统加以照射形成在一 网线或光罩上之图案,以及使用一投影光学系统将 该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统照射要照射的表面,且其特征在 于: 一镜片系统,该系统用以将来自光源之光线导向要 照射之表面;以及 一调整单元,该单元以偏心及/或旋转方式移动该 镜片系统中至少一镜片,因此加以调整影响要照射 表面光线之入射角。29.一种设有要曝光的图案的 装置之制造方法,该方法包含使用曝光设备以使具 有装置图案之工件曝光的步骤,以及对曝光的工件 实施预定程序之步骤, 其中,该曝光设备使用照明系统加以照射形成在一 网线或光罩上之图案,以及使用一投影光学系统将 该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器; 一第一光学系统,该系统将来自光源之光线投射在 该第一反射式整合器上面;以及 一第二光学系统,该系统是使来自该第一反射式整 合器之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表 面上; 其中,该第一光学系统包含一变更单元,该单元是 用以改变影响该第一反射式整合器之光源直径及/ 或形状。30.一种设有要曝光的图案的装置之制造 方法,该方法包含使用曝光设备以使具有装置图案 之工件曝光的步骤,以及对曝光的工件实施预定程 序之步骤, 其中,该曝光设备使用照明系统加以照射形成在一 网线或光罩上之图案,以及使用一投影光学系统将 该图案投射在一工件上, 其中,该照明系统以来自光源的光照射要照射的表 面,且其特征在于: 一第一反射式整合器,该整合器有一布置在一瞳孔 位置之反射表面; 一第一光学系统,用以将来自光源之光线歪斜地投 射在该第一反射式整合器之上面; 一第二光学系统,用以使来自该第一反射式整合器 之光束成一光束重叠另一光束在要照射之表面上; 以及 一挡板,该挡板被布置在或近邻该第一反射式整合 器之反射表面,该挡板光圈形状沿歪斜地投射在该 第一反射式整合器上光线之入射平面之方向加以 伸长。图式简单说明: 第1图为根据本发明一第一实施例之一曝光设备之 概要图。 第2A图为一凸面式整合器之一概要和透视图,该整 合器适用于第1图中所示曝光设备之反射式整合器 。 第2B图为一凹面式整合器之一概要和透视图,该整 合器适用于第1图中所示曝光设备之反射式整合器 。 第3图为一用以说明反射式整合器作业之概要图, 该整合器具有如第2A和2B图中所示之凸面圆柱形表 面。 第4A图为一用以说明光线反射在如第3图中所示之 反射式整合器圆柱形表面上的透视图。 第4B图为一用以说明光线反射在如第3图中所示之 反射式整合器圆柱形表面上的向量图。 第5图为一用以说明如第4A图中之圆柱形表面所反 射之光线角度分布之概要图。 第6图为一用以说明由第1图中所示曝光设备之两 整合器所界定之弧形照明的放大图 第7图为一第1图中所示一修饰光源端反射式整合 器实例之概要和透视固。 第8图为一根据本发明第二实施例曝光设备之概要 图。 第9图为一根据本发明第三实施例曝光设备之概要 图。 第10图为一用以说明第9图中所设曝光设备其中之 一光源端整合器的概要图。 第11图为一用以说明第9图中所设曝光设备另一光 源端整合器的概要图。 第12图为藉由交换在第9图曝光设备中之光源端整 合器,用以说明照明光学系统之数値光圈切换步骤 的概要图。 第13图为藉由交换在第9图曝光设备中之光源端整 合器;用以说明照明光学系统之数値光圈切换步骤 ,类似于第12图之概要图。 第14A图为一使用于第9图中所示曝光设备一光罩端 整合器之一挡板实例的平面图。 第14B图为一使用于第9图中所示曝光设备一光罩端 整合器之另一挡板实例的平面图。 第14C图为一使用于第9图中所示曝光设备一光罩端 整合器之一进一步挡板实例的平面图。 第15图为一用以说明在第图固曝光设备中一光罩 端整合器,一旋转抛物面镜及一遮罩片之概要图。 第16图为一用以说明例如为半导体晶片(IC或LSI)、 LCD、CCD之装置制程的流程图。 第17图为一用以说明第16图中步骤4一晶圆制程细 节之流程图。 第18图为一习知曝光设备之概要图。 第19图为一用以说明一光罩上照明区与一供曝光 使用区之间关系的平面图。 |
