具有辅助开口之光罩及使用该光罩之曝光方法

摘要

一种设计于光罩上之非元件区域之辅助开口，经曝光后于半导体基底上形成曝光后图案。该光罩图形设计包括有一四边之主阵列及复数个辅助开口设置于该主阵列四周位置，而于曝光显影后形成一主晶片图案于半导体基底上。该半导体基底包含有一氮化矽层、复数个主晶片区及复数个空白曝光区。首先，形成一光阻层于该半导体基底上。接下来，提供一光罩，其上设计有一主阵列及包含复数个辅助开口图案。该半导体基底上之主晶片图案系藉由该光罩上之主阵列图案予以曝光成形；而该半导体基底上之空白曝光区系藉由该光罩上之辅助开口予以曝光成形。最后，再去除该未曝光之光阻层。