| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2003284605(A1) |
申请公布日期 |
2004.06.15 |
| 申请号 |
AU20030284605 |
申请日期 |
2003.11.20 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TOSHIHISA NOZAWA;MASARU SASAKI;MASAJI INOUE |
| 分类号 |
C23C16/44;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
