| 主权项 |
1.一种记录媒体之制造方法,其特征为具有微细凹凸,且具有:感热材料层形成步骤,其系形成在构成上述记录媒体的基板上;图案之变质部形成步骤,其系于该感热材料层上,照射雷射光在因应上述微细凹凸图案的图案上,并在上述感热材料层上因应上述微细凹凸图案来形成;及图案化步骤,其系上述该感热材料层显像,将该感热材料层图案化;且藉由光上述微细凹凸之周期高频之频率所调变的雷射光照射,来进行上述雷射光的图案照射。2.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述感热材料层系采叠层构造,其包含以彼此互异之构成材料形成之至少第一及第二材料层;藉由上述雷射光照射促使温度上昇,使产生相互扩散或溶解,在上述至少第一及第二材料层之构成材料中产生相互扩散或溶解,藉由上述至少第一及第二材料层之构成材料的混合或反应来形成上述变质部。3.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述雷射光为半导体雷射光。4.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述雷射光为蓝紫雷射光。5.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述感热材料层的构成材料为无机材料。6.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述经图案化之感热材料层系作为遮光罩,在上述基板上形成微细凹凸。7.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述经图案化之感热材料层系作为遮光罩,藉由反应性离子蚀刻,在上述基板上形成微细凹凸。8.如申请专利范围第1项之记录媒体之制造方法,其中上述感热材料层之图案步骤中的显像,系藉由tetramethyl ammonium hydro oxide水溶液来进行。9.一种记录媒体制造用原盘之制造方法,其特征为制造具有微细凹凸的记录媒体,且具有:感热材料层形成步骤,其系形成在构成上述记录媒体的基板上;图案之变质部形成步骤,其系于该感热材料层上,照射雷射光在因应上述微细凹凸图案的图案上,并在上述感热材料层上因应上述微细凹凸图案来形成;及图案化步骤,其系上述该感热材料层显像,将该感热材料层图案化;且藉由光上述微细凹凸之周期高频之频率所调变的雷射光照射,来进行上述雷射光的图案照射。10.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述感热材料层系采叠层构造,其包含以彼此互异之构成材料形成之至少第一及第二材料层;藉由上述雷射光照射促使温度上昇,使产生相互扩散或溶解,在上述至少第一及第二材料层之构成材料中产生相互扩散或溶解,藉由上述至少第一及第二材料层之构成材料的混合或反应来形成上述变质部。11.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述雷射光为半导体雷射光。12.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述雷射光为蓝紫雷射光。13.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述感热材料层的构成材料为无机材料。14.如申请专利范围第9项之记录媒体之制造方法,其中上述经图案化之感热材料层系作为遮光罩,在上述基板上形成微细凹凸。15.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述经图案化之感热材料层系作为遮光罩,藉由反应性离子蚀刻,在上述基板上形成微细凹凸。16.如申请专利范围第9项之记录媒体制造用原盘之制造方法,其中上述感热材料层之图案步骤中的显像,系藉由tetramethyl ammonium hydro oxide水溶液来进行。17.一种记录媒体之制造装置,其特征为具有微细凹凸,且具有:保持手段,其系保持基板,该基板构成至少在一主面上覆盖形成有感热材料层的记录媒体;雷射光源部;调变手段,其系因应上述微细凹凸的个案调变自该雷射光源部发射之雷射光,同时调变成比上述微细凹凸之图案周期高频的频率;光学系统,其系具有将上述雷射光集光在上述感热材料层上的集光镜头系统;及移动手段,其系对上述感热材料层移动上述雷射光的照射位置。18.如申请专利范围第17项之记录媒体之制造装置,其中上述调变手段系以高速调变器与低速调变器构成。19.如申请专利范围第17项之记录媒体之制造装置,其中上述雷射光源部系以半导体雷射构成,上述调变手段系调变注入上述半导体雷射的电流。20.一种记录媒体制造用原盘之制造装置,其特征为制造具有微细凹凸的记录媒体。且具有:保持手段,其系保持基板,该基板构成至少在一主面上覆盖形成有感热材料层的记录媒体;雷射光源部;调变手段,其系因应上述微细凹凸的图案调变自该雷射光源部发射之雷射光,同时调变成比上述微细凹凸之图案周期高频的频率;光学系统,其系具有将上述雷射光集光在上述感热材料层上的集光镜头系统;及移动手段,其系对上述感热材料层移动上述雷射光的照射位置。21.如申请专利范围第20项之记录媒体制造用原盘之制造装置,其中上述调变手段系以高速调变器与低速调变器构成。22.如申请专利范围第20项之记录媒体制造用原盘之制造装置,其中上述雷射光源部系以半导体雷射构成,上述调变手段系调变注入上述半导体雷射的电流。图式简单说明:图1为以本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造方法获得之所需微细凹凸图案一种范例的平面图。图2本发明方法使用之雷射光能量分布与温度上昇区域的关系图。图3为本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造方法之雷射光调变方法的说明图,其中A表示资料图案,B及C表示雷射光照射图案,D表示微细凹凸图案。图4A及B分别为本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造方法的步骤图(之一)范例。图5A至D分别为本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造方法的步骤图(之二)范例。图6为本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造装置一种范例的构成图。图7为本发明之记录媒体及记录媒体制造用原盘之制造装置另一种范例的构成图。图8为供说明使用光前之感光性材料制造圆盘之方法的概略剖面图。图9为感光性材料的(gamma)曲线图。图10为供说明光前方法的图,A及B分别为雷射光之能量分布与感光反应区域的关系图。图11为供说明光前方法的图,其中A为雷射光图案图,B为曝光图案图,C为凹部的图案图。 |
