发明名称 研磨液组合物
摘要 本发明提供了作为存储硬盘的基板研磨、特别是精加工研磨用的,可以减少坑或凸起等表面缺陷的研磨液组合物,使用该研磨液组合物来减少基板表面缺陷的方法以及使用上述研磨液组合物的基板的制造方法。一种研磨液组合物,它含有磨料、酸和/或其盐和水,其中,在1kg研磨液组合物中的铜(Cu)含量在1mg以下。一种用于减少基板表面缺陷的方法,其中,各基板或研磨台供给一种含有磨料、酸和/或其盐、水的研磨液组合物来研磨基板时,使向基板或研磨台供给的该研磨液组合物中的铜含量,在1kg该研磨液组合物中为1mg以下。以及,一种具有研磨工序的基板的制造方法,其中,在向基板或研磨台供给含有磨料、酸和/或其盐、水的研磨液组合物来研磨基板时,使向基板或研磨台供给的该研磨液组合物中的铜含量,在1kg该研磨液组合物中为1mg以下。
申请公布号 CN1502667A 申请公布日期 2004.06.09
申请号 CN200310120369.8 申请日期 2003.10.30
申请人 花王株式会社 发明人 萩原敏也;藤井滋夫
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邰红;郭广迅
主权项 1.研磨液组合物,它是一种含有磨料、酸和/或其盐、水的研磨液组合物,其中,在1kg研磨液组合物中的铜(Cu)的含量在1mg以下。
地址 日本东京都中央区