光刻投射装置及器件制造方法

摘要

通过提供与基底同步地移动投射到基底上的带图案的投射光束的机构，补偿在一辐射脉冲内、光刻装置中基底的移动的机构。

主权项

1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射脉冲投射光束的辐射系统；用于根据理想的图案对投射光束进行构图的程控构图部件；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于相对于投射系统移动基底的机构。其特征在于所述装置还包括用于在至少辐射系统的一个脉冲内，相对投射系统移动投射到基底上的带图案的投射光束的机构，这样在所述至少一个脉冲内，投射光束相对于基底基本静止。