发明名称 用于气雾型药剂输送装置与方法之流量调节器
摘要 一种雾化装置包含一外壳,具有接口件;以及,一气流路径配置与该妾口件作流体相通。一气流路径配置具有一流量调节阀及一临限阀,其中,临限阀构造在一第一真空程度上打开,及在低于第一真空程度之一第二真空程度上关闭。该外壳包含一区,此适于保持一粉末与气流路径配置在流体上相通,俾经由接口件吸入之空气一旦超过第一真空程度时打开临限阀,并保持打开,直至真空降落于第二真空程度以下为止。通过接口件吸入之空气之流量由流量调节阀调节,以当临限阀保持打开时,维持于某一范围内。
申请公布号 TW589201 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW091113393 申请日期 2002.06.19
申请人 尼可塔疗法公司 发明人 威廉 艾尔斯顿;史帝芬 史蒙德斯
分类号 A61M11/00 主分类号 A61M11/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种调节空气流量之方法,该方法包括:提供一气流路径配置,具有一流量调节阀及一临限阀,其中,临限阀构造在一第一真空程度上打开,及在较第一真空程度为低之一第二真空程度上关闭;在气流路径配置内产生一真空,足以打开该临限阀,并许可气体以某一流量离开该气流路径配置;在至少某一时间维持该真空于第二真空程度以上,以维持临限阀打开,由流量调节阀调节流量于某一范围内,同时临限阀保持打开。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,气流路径配置具有一第一气流路径,此分为一第二气流路径及一第三气流路径,其中,临限阀在第一气流路径,流量调节阀在第二气流路径,及粉末连接至第三气流路径。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,第一真空程度在自约20cm H2O至约50cm H2O之范围,且其中,第二真空程度在自约0cmH2O至约12cm H2O之范围中。4.如申请专利范围第3项所述之方法,其中,第二真空程度低于约8cm H2O。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,在约15cm H2O至约80cm H2O之真空中,该某流量范围为约12公升/分至约16公升/分。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,流量调节阀包含至少一可变形壁及一相对表面,其中,当流量调节阀下游之真空增加时,可变形壁向相对壁移动,以调整流量。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,流量调节阀包含一阀体,具有一入口端,一出口端,及一气流通道在入口端及出口端之间,其中,阀体为弹性材料所制,且其中,阀体在出口端具有一中心区,及多个自中心区向外伸出之延伸区,且其中,当出口端下游之真空增加时,延伸区拉拢一起,以限制气体通过气流路径之流量。8.一种雾化粉末之方法,该方法包括:提供一气流路径配置,具有一流量调节阀及一临限阀,其中,临限阀构造在一第一真空程度上打开,及在较第一真空程度为低之一第二真空程度上关闭;提供一定量之粉末,此与气流路径配置在流体上相通;吸气,俾在气流路径配置内产生一真空,足以打开临限阀,并许可气体在某一流量上离开气流路径;继续吸气,俾在至少某一时间维持真空于第二真空程度以上,以维持临限阀打开,并雾化粉末,由流量调节阀调节流量于某一范围内,同时临限阀保持打开。9.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,气流路径配置具有第一气流路径,此分为一第二气流路径及一第三气流路径,其中,临限阀在第一气流路径,流量调节阀在第二气流路径,及粉末连接至第三气流路径。10.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,第一真空程度在自约20cm H2O至约50cm H2O之范围,且其中,第二真空程度在自约0cm H2O至约12cm H2O之范围中。11.如申请专利范围第10项所述之方法,其中,第二真空程度低于约8cm H2O。12.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,气流路径配置连接至一接口件,且其中,吸气步骤包括通过该接口件吸气。13.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,在约15cm H2O至约80cm H2O真空中,该某流量范围为约12公升/分至约16公升/分。14.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,流量调节阀包含至少一可变形壁及一相对表面,其中,当流量调节阀下游之真空增加时,可变形壁向相对壁移动,以调整流量。15.如申请专利范围第14项所述之方法,其中,流量调节阀包含一阀体,具有一入口端,一出口端,及一气流通道在入口端及出口端之间,其中,阀体为弹性材料所制,且其中,阀体在出口端具有一中心区,及多个延伸区自中心区向外伸出,且其中,当出口端下游之真空增加时,延伸区拉拢一起,以限制气体通过气流路径之流量。16.如申请专利范围第8项所述之方法,其中,粉末包含于一容器内,且其中,通过气流路径配置之气体流过容器,以取出并雾化粉末。17.一种雾化装置,包含:一外壳,具有一接口件;一气流路径配置,与接口件在流体上相通,该气流路径配置具有一流量调节阀及一临限阀,其中,临限阀构造在一第一真空程度上打开,及在低于第一真空程度之一第二真空程度上关闭;其中,该外壳包含一区,此适于保持一粉末与气流路径配置在流体上相通,其中,经由接口件吸入之空气一旦超过第一真空程度时打开临限阀,并保持打开,直至真空降落于第二真空程度以下为止,及通过接口件吸入之空气之流量由流量调节阀调节,以维持于某一范围内,同时临限阀保持打开。18.如申请专利范围第17项所述之装置,其中,气流路径配置具有一第一气流路径,此分为一第二气流路径及一第三气流路径,其中,临限阀在第一气流路径,流量调节阀在第二气流路径,及粉末连接至第三气流路径。19.如申请专利范围第18项所述之装置,其中,第二气流路径及第三气流路径合并至连接至接口件之第四气流路径。20.如申请专利范围第17项所述之装置,其中,第一真空程度在自约20cm H2O至约50cm H2O之范围,且其中,第二真空程度在自约0cm H2O至约12cm H2O之范围中。21.如申请专利范围第20项所述之装置,其中,第二真空程度低于约8cm H2O。22.如申请专利范围第17项所述之装置,另包含一容器,被保持于该区内,该容器具有一室适于保持粉末。23.如申请专利范围第17项所述之装置,其中,在约15cm H2O至约80cm H2O之真空中,该某流量范围为约12公升/分至约16公升/分。24.如申请专利范围第17项所述之装置,其中,流量调节阀包含至少一可变形壁及一相对表面,其中,当流量调节阀下游之真空增加时,可变形壁向相对壁移动,以调整流量。25.如申请专利范围第17项所述之装置,其中,流量调节阀包含一阀体,具有一入口端,一出口端,及一气流通道在入口端及出口端之间,其中,阀体为弹性材料所制,且其中,阀体在出口端具有一中心区,及多个自中心区向外伸出之延伸区,且其中,当出口端下游之真空增加时,延伸区拉拢一起,以限制气体通过气流路径之流量。26.一种阀,包含:一阀体,具有一入口端,一出口端,及一气流通道在入口端及出口端之间,其中,阀体为弹性材料所制,且其中,阀体在出口端具有一中心区,及多个自中心区向外伸出之延伸区,由此,当出口端下游之真空增加时,延伸区拉拢一起,以限制气体通过气流路径之流量。27.如申请专利范围第26项所述之阀,其中,每一延伸区包含一对壁,具有一底端及一顶端,且其中,各顶端在锐角处连接。28.如申请专利范围第27项所述之阀,其中,每一延伸区在壁之底端处连接至二相邻延伸区,以界定该中心区。29.如申请专利范围第28项所述之阀,其中,延伸区之数为8。30.如申请专利范围第26项所述之阀,其中,出口端包含二正交轴线,其中,二轴线之一通过延伸区之二,及另一正交轴线通过另二延伸区。31.如申请专利范围第26项所述之阀,其中,弹性材料包含矽酮橡胶。32.如申请专利范围第26项所述之阀,另包含一边界层阶,在阀体上入口端附近。图式简单说明:图1为本发明之雾化装置之概要图。图2A为本发明之临限阀之一实施例之透视图,显示在关闭位置。图2B显示图2A之临限阀在打开位置。图3为曲线图,显示所施加之真空及通过图1之雾化装置之流量间之关系。图4为曲线图,显示通过图1之装置之吸气之一例。图5为本发明之流量调节阀之一实施例之顶透视图。图6为图5之流量调节阀之底透视图。图7为曲线图,显示当在串-并联构造中时,所施加之负载及图5及6之阀之断面积间之关系。图8为曲线图,显示当在串联构造中时,图5之阀之气流阻力及真空间之关系。图9为曲线图,显示当在串联构造中时,图5之阀之断面积对真空。
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