| 发明名称 |
Dry etching system and method for use in semiconductor manufacture |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2363900(B) |
申请公布日期 |
2004.05.26 |
| 申请号 |
GB20010009654 |
申请日期 |
2001.04.19 |
| 申请人 |
* NEC CORPORATION;* NEC ELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
TOSHIAKI * SANGO;TOSHIAKI * SANGO |
| 分类号 |
H05H1/46;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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