发明名称 碟片制造方法
摘要 一种碟片制造方法,适用于由盖板及基板胶合所构成之基板,此方法藉由控制盖板在半径23mm处之双曲折射率介于-10nm至35nm之间,以克服碟片随着时间而产生机械特性异常的问题,使得碟片的使用寿命增加。
申请公布号 TW588347 申请公布日期 2004.05.21
申请号 TW091113447 申请日期 2002.06.20
申请人 铼德科技股份有限公司 发明人 林炳煌;锺仁华
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种碟片制造方法,至少包括:提供一基板;于该基板上形成一预录层;于该预录层上形成一反射层;提供一盖板,控制该盖板在半径23mm处之双曲折射率介于-10nm至35nm之间;以及将该基板与该盖板胶合,以形成一碟片。2.如申请专利范围第1项所述之碟片制造方法,其中该基板系以射出成型方式形成。3.如申请专利范围第1项所述之碟片制造方法,其中该盖板系以射出成型方式形成。4.如申请专利范围第1项所述之碟片制造方法,其中该反射层系以溅镀方式形成。5.如申请专利范围第1项所述之碟片制造方法,其中该基板与该盖板之接合方式包括旋转涂布胶合法、热融胶压合胶合法、网板印刷胶合法、贴布胶合法,以及加压胶合法。6.如申请专利范围第1项所述之碟片制造方法,其中该预录层形成之后更包括下列步骤:形成一半反射层于该预录层上;以及形成一第二预录层于该半反射层上。7.一种碟片制造方法,至少包括:提供一基板;于该基板上形成一记录层;于该记录层上形成一反射层;提供一盖板,控制该盖板在半径23mm处之双曲折射率介于-10nm至35nm之间;以及将该基板与该盖板胶合,以形成一碟片。8.如申请专利范围第7项所述之碟片制造方法,其中该基板系以射出成型方式形成。9.如申请专利范围第7项所述之碟片制造方法,其中该盖板系以射出成型方式形成。10.如申请专利范围第7项所述之碟片制造方法,其中该反射层系以溅镀方式形成。11.如申请专利范围第7项所述之碟片制造方法,其中该基板与该盖板之接合方式包括旋转涂布胶合法、热融胶压合胶合法、网板印刷胶合法、贴布胶合法,以及加压胶合法。12.一种盖板,适于与一基板胶合而成一碟片,其中该盖板在半径23mm处之双曲折射率介于-10nm至35nm之间。图式简单说明:第1图至第4图绘示为四种预录型DVD之结构剖面示意图;第5图绘示为记录型DVD之结构剖面示意图;第6图绘示为依照本发明一较佳实施例碟片制作的方块流程图;第7A图、第7B图与第7C图分别表列出本实施例碟片在半径23mm、45mm与57mm处所量测到的各参数値;以及第8A图、第8B图与第8C图分别表列出习知碟片在半径23mm、45mm与57mm处所量测到的各参数値。
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