| 主权项 |
1.一种基板电极电浆产生装置,其特征为: 在一基板上配置至少一对的电极,在该至少一对的 电极间形成微小间隙,于该至少一对的电极间之微 小领域产生电浆,且将该基板与该至少一对的电极 配置于相对于一材料之位置,俾使产生电浆以于任 意的环境下对该材料进行处理。2.如申请专利范 围第1项的基板电极电浆产生装置,其中,该至少一 对的电极间之微小间隙为5m至10m。3.如申请专 利范围第1项的基板电极电浆产生装置,其中,使产 生于前述电极对的电浆为直流电浆、交流电浆或 高频电浆。4.如申请专利范围第1项的基板电极电 浆产生装置,其中,前述任意的环境为真空、气体 、液体。5.如申请专利范围第1项的基板电极电浆 产生装置,其中,前述电极对为由配置在基板上的 薄膜所构成的电极对。6.如申请专利范围第1项的 基板电极电浆产生装置,其中,在同一基板上配置 多数之电极对,同时分别独立地控制上述各电极对 以产生电浆。图式简单说明: 图1表示基板电极电浆产生装置的全体构成图; 图2为利用扫瞄式电子显微镜从上方观察的一对基 板电极之观察图; 图3为利用扫瞄式电子显微镜的基板电极之观察图 ,(A)为从基板电极阵列上方的观察图,(B)为从电浆 产生部位附近侧边的观察图; 图4为图2所示的基板电极中的电浆产生情形之示 意图,(a)为电浆产生前的图,(b)为电浆产生时的图; 图5(a)~(d)为显示利用基板电极电浆产生装置,在同 一以及不同基板上的任意位置形成各种薄膜的制 程示意图; 图6(a)~(d)为采用基板电极电浆产生装置的基板之 表面处理示意图; 图7(a)~(d)为藉由基板电极电浆产生装置与喷墨印 刷装置的组合,形成微小光学系薄膜的制程示意图 ; 图8为采用基板电极电浆产生装置的矽蚀刻示意图 。 |
