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Eine Beleuchtungseinrichtung für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, die vorzugsweise mit einer Quecksilber-Hochdrucklampe als primäre Lichtquelle arbeitet, hat zur Durchmischung von Licht der primären Lichtquelle eine Integratoreinheit mit mindestens einem quaderförmigen Integratorstab mit einer rechteckförmigen Eintrittsfläche (43) und rechtwinkelig zueinander ausgerichteten Seitenflächen (45, 47). Im Lichtweg vor der Eintrittsfläche (43) ist eine quaderförmige Vormischeinheit (50) mit rechteckigem Querschnitt angeordnet, die mehrere, schräg zu den Seitenflächen des Integratorstabs verlaufende Reflexionsflächen (156, 157, 158, 159) aufweist. Die schrägen Reflexionsflächen bewirken eine azimutale Durchmischung des Lichtes und können dazu genutzt werden, hinter der Vormischeinheit eine weitgehend elliptizitätsfreie Pupille des Beleuchtungslichtes bereitzustellen.
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