发明名称 | 藉微影曝光之反射镜及制造方法 | ||
摘要 | 在一半导体制造反射光学镜中具有一覆盖层在一反射的多层序列之上,根据本发明,提供覆盖层一掺杂且一人工氧化层藉由过氧化氢的辅助成长于覆盖层之上,特别是在催化剂(铂)存在之下。人工生长的氧化层比一自然生长的氧化层较为均质,且在半导体制品之微影曝光的期间,能改善镜面之光学性质。 | ||
申请公布号 | CN1495443A | 申请公布日期 | 2004.05.12 |
申请号 | CN03152529.6 | 申请日期 | 2003.08.01 |
申请人 | 因芬尼昂技术股份公司 | 发明人 | F·-M·卡姆;J·劳 |
分类号 | G02B5/08;G02B1/02;G03F7/00 | 主分类号 | G02B5/08 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;梁永 |
主权项 | 1.一种半导体制品之微影曝光的反射镜之制造方法,在一基板上生成一多层结构以及,在后者之上,一覆盖层由一材料其上有一空气中形成之自然氧化层,其特征系覆盖层从一掺杂的材料所制得且使其与过氧化氢接触,结果一人工生长的氧化层在覆盖层上形成。 | ||
地址 | 德国慕尼黑 |