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发明名称 TWO-STEP ATOMIC LAYER DEPOSITION OF COPPER LAYERS
摘要
申请公布号 AU2003287156(A1) 申请公布日期 2004.05.04
申请号 AU20030287156 申请日期 2003.10.17
申请人 AVISA TECHNOLOGY INC. 发明人 YOSHIHIDE SENZAKI
分类号 C23C16/00;C23C16/06;C23C16/14;C23C16/18;C23C16/44;C23C16/455;H01L;H01L21/285;H01L21/768 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
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