发明名称 辐射敏感性树脂组成物,形成图样化绝缘膜的方法,配有彼之主动矩阵基板及平面显示器,及制备平面显示器的方法
摘要 本发明提供一种辐射敏感性树脂组成物,由彼形成图样化绝缘膜具有可容易作高精密拒水性变化,使用此组成物以形成图样化绝缘膜的方法,使用组成物的显示元件及平面显示器,及制备平面显示器的方法。此树脂组成物包含特定比例的(A)硷可溶解的共聚物,(B)1,2-二叠氮化合物及(C)拒水性矽氧烷树脂。在形成图样化绝缘膜的制作方法中,系在树脂组成物形成的涂层上执行图样的曝光与显影。显示元件与平面显示器系配有使用此树脂组成物形成的层间绝缘膜。平面显示器的制作方法包含一项层间绝缘膜形成步骤,此步骤中包含图样化曝光处理,在一次曝光之中将导体层形成区域曝光,仅将其一部分表面层部分作硬化,且在其它部分中的全部厚度方向硬化;与一项导体层形成步骤,此步骤中采用液体材料在层间绝缘膜之表面上形成导体层。
申请公布号 TW200406642 申请公布日期 2004.05.01
申请号 TW092108557 申请日期 2003.04.14
申请人 夏普股份有限公司;JSR股份有限公司 发明人 小林和树;迫野郁夫;白木真司;佐佐木宽文;丹羽一明
分类号 G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本