| 主权项 |
1.一种灰阶罩幕制造方法,该灰阶罩幕包含一不透 光部分、一透光部分和一灰阶部分,其中该灰阶部 分系为具有一图案尺寸等于或小于一曝光装置的 一解析度极限之一不透光图案的区域,且该曝光装 置系利用一罩幕以减少穿透该区域之曝光量该灰 阶罩幕的制造方法包括步骤: 准备一具有一不透光膜在其上之透明基板; 在该不透光膜上形成一抗蚀膜,而在一形成一灰阶 部分的区域中,该抗蚀膜的厚度于一平面上的分布 系抑制在1%或更小; 以一含有灰阶图案资料的图案资料图案化该抗蚀 膜; 将该抗蚀膜加以显影而形成一抗蚀图案; 利用该抗蚀图案作为一罩幕对该不透光部分加以 蚀刻;以及 剥离该抗蚀图案。2.一种灰阶罩幕制造方法,该灰 阶罩幕包含一不透光部分、一透光部分和一灰阶 部分,其中该灰阶部分系为是具有一图案尺寸等于 或小于一曝光装置的一解析度极限的一不透光图 案的区域,且该曝光装置系利用一罩幕以减少穿透 该区域之曝光量且该灰阶罩幕的制造方法的步骤 包括在一透明基板上的一不透光膜上形成一抗蚀 膜,而在一形成一灰阶部分的区域中,该抗蚀膜的 厚度于一平面上的分布系抑制在1%或更小。3.如 申请专利范围第1或2项之灰阶罩幕制造方法,其中 利用通过一毛细管喷嘴之一毛细管现象使一抗蚀 液升高并藉由一喷嘴头扫过面朝下之该基板,而形 成该抗蚀膜。4.一种灰阶罩幕制造方法,该灰阶罩 幕系用于制造显示装置制程中且包含一不透光部 分、一透光部分和一灰阶部分,其中该灰阶部分系 为具有一图案尺寸等于或小于一曝光装置的一解 析度极限的一不透光图案的区域,且该曝光装置系 利用一罩幕以减少穿透该区域之曝光量该灰阶罩 幕经由包括一步骤的方法所制成,该步骤为在形成 一灰阶罩幕的制程中,于一透明基板上所形成一抗 蚀膜,其在一形成一灰阶部分的区域中,抑制该抗 蚀膜的厚度于一平面上的分布在1%或更小。5.如 申请专利范围第4项之灰阶罩幕制造方法,其中利 用通过一毛细管喷嘴所产生之一毛细管现象使一 抗蚀液升高并藉由一喷嘴头扫过面朝下之该基板, 而形成该抗蚀膜。图式简单说明: 图1系为一具体例之一抗蚀膜厚度测量结果之示意 图。 图2系为本案一具体例之一灰阶图案尺寸测量结果 之示意图。 图3系为一比较例之一抗蚀膜厚度测量结果之示意 图。 图4系为一比较例之一灰阶图案尺寸测量结果之示 意图。 图5系为本案一预定之灰阶图案实施例之图形。 图6系为本案另一预定之灰阶图案实施例之图形。 图7系为该具体例之一抗蚀应用装置之代表图。 图8A和8B系用于说明一灰阶罩幕之部分俯视图及部 分断面图。 |
