| 主权项 |
1.一种含有光催化剂和具有共轭系统配位体之 金属错合物敏感剂之组成物,其在可见及/或红外 光谱范围中实质上吸收光线,有效淀积该组成物之 功能性残留物于表面上。2.如申请专利范围第1项 之组成物,其中在该金属错合物敏感剂内之原子为 如后者之一或多种:钌、铂、钯、铱、铑、锇、铼 、铁、铜、钛和锌。3.如申请专利范围第1项之组 成物,其中金属错合物敏感剂包含如后者之一或多 种:含有聚啶之杂环错合物,巨环物或花青配 位体以及任意之其他配位体型式,其中至少有一氮 基被他种施与基所取代。4.如申请专利范围第1至3 项中任一项之组成物,其中敏感剂包括如后者之一 或多种:钌Ⅱ、Ⅲ或Ⅳ或混合氧化态之含氮施与原 子之螯合错合物5.如申请专利范围第1至3项中任一 项之组成物,其中敏感剂包括如后者之任一或多种 :钌(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或混合之氧化态之聚啶错合 物。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中该敏感 剂包括如后各基之任一或多种:三啶基、二啶 基、花青、佛辅林(Phorphyrins)、四--轮烯、 、啡和其中之衍生物,以及实质上相似之以氮 为基之环形系统。7.如申请专利范围第6项之组成 物,其中该敏感剂另含一或多种R4N+或R4P+之基,其中 各R基可为相同或不同,为如下各基之任一或多种: 氢、卤素、胺、烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、 杂环基,或其中之衍生物,包括酸和酯衍生物,其任 何一种可为分支或非分支,已被取代或未被取代。 8.如申请专利范围第6或7项之组成物,其中之敏感 剂包括具有下示通式Ⅰ之三啶基: 其中R1.R2和R3中至少有一为带正电荷基,其为具有 下示通式Ⅱ: 其中R5-R7为如下各基之任一或多种:氢、卤素、胺 、烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、杂环基,或其中 之衍生物,包括酸和酯衍生物,其任一种可为分支 或非分支,已取代或未取代。9.如申请专利范围第6 或7项之组成物,其中之敏感剂包括具有下示通式( Ⅲ)之二啶基: 其中R8和R9可为相同或不同,为如下各基之任一或 多种:氢、卤素、胺、烷基、芳基、芳烷基、烷氧 基、杂环基,或其中之衍生物,包括酸和酯衍生物, 其任一可为分支或非分支,已取代或未取代,R2可与 R3相同或不同,且为如下各基之任一或多种:氢、卤 素、胺、烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、杂环基, 或其中之衍生物,包括酸和酯衍生物,其任一可为 分支或非分支,已取代或未取代。10.如申请专利范 围第6或7项之组成物,其中之敏感剂包括具有下示 通式(Ⅳ)之分子与其衍生物之花青基: 其中各R基可为相同或不同,且为如下各基之一或 多种:氢、卤素、胺、烷基、芳基、芳烷基、烷氧 基、杂环基,或其中之衍生物,包括酸和酯衍生物, 其任一可为分支或非分支,已取代或未取代。11.如 申请专利范围第6或7项之组成物,其中之敏感剂包 括具有如下示通式(Ⅴ)之四--轮烯基及其衍生物 : 其中R1-R4可为相同或不同,且为如下各基之任一或 多种:氢、卤素、胺、烷基、芳基、芳烷基、烷氧 基、杂环基,或其中之衍生物,包括酸和酯衍生物, 其任一可为分支或非分支,已取代或未取代。12.如 申请专利范围第1项之组成物,其为一种液体。13. 如申请专利范围第1项之组成物,其中之光吸收剂 在该组成物中所占不多于50%重量/容量。14.如申请 专利范围第1项之组成物,其中敏感剂在该组成物 中所占不多于1%重量/容量。15.如申请专利范围第 12至14项中任一项之组成物,其为具有小于7之pH。16 .如申请专利范围第12至14项中任一项之组成物,其 为具有7或更大之pH。17.如申请专利范围第1项之组 成物,另含一种掺杂剂(doping agent)。18.如申请专利 范围第17项之组成物,其中之掺杂剂为如下之任何 一或多种:铂、钯、钴、钨、铬、银、铜、镍或铁 ,及/或其中之化合物和错合物。19.如申请专利范 围第1项之组成物,另含有一种湿着剂,其为如下之 任何一种或多种IgepalCA-520[聚氧乙烯(5)异辛基苯 基醚],IgepalCA-630[(辛基苯氧基)聚乙氧基乙醇], IgepalCA-730[聚氧乙烯(12)异辛基苯基醚]。20.一种 敏感剂,其为包含如下各基之任何一或多种:三 啶基、二啶基、花青、佛辅林(Phorphyrins)、四 --轮烯、、啡和其中之衍生物,和实质上 具有相似氮基环系统之化合物。21.如申请专利范 围第20项之敏感剂,其另包含R4N+基或R4P+基之任何 一或多种,其中R基可为相同或不同,且为如下各基 之任何一或多种:氢、卤素、胺、烷基、芳基、芳 烷基、烷氧基、杂环基,或其中之衍生物,包括酸 和酯衍生物,其任何一种可为分支或非分支,已取 代或未取代。22.如申请专利范围第20或21项之敏感 剂,具有申请专利范围第8至11项中任何一或多项特 点。23.如申请专利范围第20项之敏感剂,其可用在 表面上光吸收剂之敏感化,而使出现于表面上之污 垢实质上被破坏及/或此等污垢在表面上之累积速 率大为减小。图式简单说明: 第1图代表实施例6所述指标染料龙胆紫随时间消 失之最大之UV/可见光谱。水平轴为波长单位nm 。纵轴是吸收度单位,用UV光谱仪(UV/可见光谱仪-UV 4-UNICAM)量测, ◆代表已敏感化之TiO2+0.1毫升龙胆紫染料(GV)于T=0 分钟,■经敏感化TiO2+0.1毫升GV,T=30分: ▲经敏感化TiO2+0.1毫升GV,T=1小时;经敏感化TiO2+0.1 毫升GV,T=2小时;一经敏感化TiO2+0.1毫升GV,T=3小时;● 经敏感化TiO2+0.1毫升GV,T=4小时。 第2图代表在实施例8所述TiO2溶胶(溶胶1)之活性。 横轴代表时间,纵轴代表吸收度之变化,用(UV/可见 光谱仪-UV4-UNICAM)量测。 ◆代表经敏感化之TiO2在pH3.28之活性,■在pH2.08,经 敏感化TiO2之活性,▲经敏感化之TiO2在pH2.72之活性, 经敏感化之TiO2在pH4.02之活性。 第3图代表实施例8所述TiO2溶胶(溶胶2)之活性。用 一(UV/可见光谱仪-UV4-UNICAM)量测,横轴代表时间,而 纵轴代表吸收度之变化, ◆代表经敏感化之TiO2在pH2.00之活性,■为经敏感 化TiO2在pH2.64之活性,▲为经敏感化TiO2在pH4.12之活 性,为经敏感化TiO2在pH3.39之活性,*为经敏感化TiO2 在pH5.00之活性,●为经敏感化TiO2在pH5.98之活性。 第4图代表如实施例8所述TiO2溶胶(溶胶3)之活性。 用一(UV/可见光谱仪-UV4-UNICAM)量测,横轴代表时间, 纵轴代表吸收度之变化, ◆代表经敏感化TiO2在pH4.1之活性,■为经敏感化TiO 2在pH3.2之活性,▲为经敏感化TiO2在pH2.7之活性,为 经敏感化TiO2在pH2.1之活性, 第5图代表如实施例8所述TiO2溶胶(溶胶4)之活性。 用(UV/可见光谱仪-UV4-UNICAM)量测,横轴代表时间,纵 轴代表吸收度之变化, ◆代表经敏感化之TiO2在pH2.74之活性,■为经敏感 化TiO2在pH2.12之活性,▲为经敏感化TiO2在pH3.38之活 性,为经敏感化TiO2在pH4.00之活性。 第6图代表在实施例9所述经敏感化之TiO2在不同pH 之活性。用(UV/可见光谱仪-UV4-UNICAM)量测,横轴代 表时间,纵轴代表吸收度之变化, ◆代表经敏感化之溶液(1)在pH6.7之活性,■为经敏 感化TiO2在pH5.2之活性,▲为经敏感化TiO2在pH8.8之活 性。 第7图代表如实施例11所述在光催化活性中光源之 效应。用(UV/可见光谱仪-UV4-UNICAM)量测,横轴代表 时间,纵轴代表吸收度之变化, ◆代表TiO2:Ru=1:6之比例,■为TiO2:Ru=1:4之比例,▲为 TiO2:Ru=1:2之比例。 |
