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Ein Verfahren zur Gasphasenabscheidung von partiell fluorierten oder perfluorierten Alkylsilanen auf einem Substrat in einer Reaktorkammer umfasst die Schritte, Reinigung des Substrates, Hydratation des Substrates mit Wasserdampf, Trocknung des Substrates und Silanisierung des Substrates durch Abscheidung des Alkylsilans aus der Gasphase, wobei die Reinigung des Substrates ein Plasmaätzen umfasst und die Hydratation unmittelbar nach dem Plasmaätzen erfolgt.
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