发明名称 Systeme und Verfahren zum epitaxialen Aufwachsen von Filmen auf ein Halbleitersubstrat
摘要
申请公布号 DE10296662(T5) 申请公布日期 2004.04.22
申请号 DE20021096662T 申请日期 2002.04.12
申请人 MATTSON TECHNOLOGY INC., FREMONT 发明人 JOHNSGARD, KRISTIAN E.;SALLOWS, DAVID E.;MESSINEO, DANIEL L.;MAILHO, ROBERT D.;JOHNSGARD, MARK W.
分类号 C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;C30B25/08;C30B25/14;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/687;(IPC1-7):H01L21/20;H01L21/68 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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