| 主权项 |
1.一种多层膜滤光片,其特征为:由基板与接连于该基板的一表面而配设的重复叠层有屈折率不同的复数个电介质材料的薄膜的多层膜构成,在位于该基板近旁的该多层膜的下部层具有用以缓和因温度的变化造成的膜厚的测定误差的影响的由单一材料构成的缓和层。2.如申请专利范围第1项所述之多层膜滤光片,其中该缓和层的膜厚位于1至10m的范围。3.如申请专利范围第2项所述之多层膜滤光片,其中该电介质材料为两种类,一方形成高屈折率层他方形成低屈折率层,各层交互叠层,该缓和层位于接连于该基板的最下层,由两种类的该电介质材料之任一方构成。4.如申请专利范围第3项所述之多层膜滤光片,其中该高屈折率层的材料为氧化钽(Ta2O5)或氧化钛(TiO2)的任一方,该低屈折率层的材料为氧化矽(SiO2)。5.如申请专利范围第4项所述之多层膜滤光片,其中该缓和层的光学膜厚d对入射的光的波长为d=2m(/4)(m为正的整数)。6.一种多层膜滤光片的制造方法,其特征包含:在基板的一面形成用以缓和因温度的变化造成的膜厚的测定误差的影响的缓和层的第一制程;以及在该缓和层的顶面交互叠层屈折率不同的两种类的电介质材料的薄膜的第二制程,其中该第一制程是该基板的温度由其初期値上升到略稳定値为止连续进行,该第二制程接着该第一制程在该略稳定値的温度中进行。7.一种光学零件,其特征为以申请专利范围第1项所述之多层膜滤光片为构成要素。8.一种多层膜滤光片,由基板与形成于该基板上的多层膜构成,其特征为:该多层膜是由形成于该基板表面的第一成膜层与形成于此第一成膜层上的第二成膜层构成,该第一成膜层为以具有对预定的波长,/4的自然数倍的膜厚的层构成,该第二成膜层为至少包含一个对该波长,/4的非自然数倍的膜厚的层而构成。9.如申请专利范围第8项所述之多层膜滤光片,其中该波长为该多层膜滤光片的使用波长域内的波长。10.如申请专利范围第8项所述之多层膜滤光片,其中该第一成膜层是由具有对该波长,/4的自然数倍的膜厚的复数的成膜层构成。11.一种光通讯模组,其特征为:具有由申请专利范围第8项所述之多层膜滤光片,与光结合于该多层膜滤光片的至少一个其他光元件构成的光处理单元,配设对该光处理单元入射光的入射口,与取出输出光的射出口。12.如申请专利范围第11项所述之光通讯模组,其中该光元件为光放大器,藉由该多层膜滤光片平坦化该光放大器的输出增益。13.一种多层膜滤光片的制造方法,其特征包含:在基板上形成由具有对预定的波长,/4的自然数倍的膜厚的至少一层构成的第一成膜层的过程;以及在该第一成膜层之上形成由具有对该波长,/4的非自然数倍的膜厚的至少一层构成的第二成膜层的过程。14.如申请专利范围第13项所述之多层膜滤光片的制造方法,其中该波长为该多层膜滤光片的使用波长域内的波长。15.如申请专利范围第13项所述之多层膜滤光片的制造方法,其中以该波长的光作为监控光使用,在该各层的成膜中藉由测定来自该监控光的各层的透过光量或反射光量,求出成膜中的层的膜厚。图式简单说明:图1是显示本发明的实施形态的多层膜滤光片的膜构成图。图2是显示本发明的多层膜滤光片的制造方法的制程剖面图。图3是显示本发明的多层膜滤光片的制造方法中的基板温度的变化图。图4是显示本发明的实施形态以及习知例的各多层膜滤光片的透过特性图。图5是显示使用本发明的实施形态的多层膜滤光片的滤光片模组的构成图。图6是显示依照本发明的实施形态的多层膜滤光片的侧面剖面图。图7是显示成膜装置的实施形态的构成图。图8是显示伴随着形成/4的规则层四层的情形中的成膜的进行的监控光的透过率变化的特性图。图9是显示适用本发明的GFF与不适用的GFF的设计时与实测时的透过率变化的特性图。图10是显示适用本发明的边缘滤波器与不适用的边缘滤波器的设计时与实测时的透过率变化的特性图。图11是显示使用多层膜滤光片的光通讯系统的例子的方块图。图12是显示习知例的多层膜滤光片的膜构成的剖面图。图13是显示边缘滤波器、GFF、BPF的波长-透过率特性的例子的特性图。图14是显示具有对测定光的波长,/4的自然数倍以及非自然数倍的膜厚构成的多层膜滤光片的透过率变化的特性图。图15是显示在成膜初期具有对测定光的波长,/4的非自然数倍的膜厚构成的多层膜滤光片的透过率变化紊乱的特性图。 |
