| 主权项 |
1.一种附有金属后背之萤光面的形成方法,其特征为具备在萤光屏内面,形成光吸收层和萤光体层呈所定图形配置排列之萤光面的工程,及在前记萤光面上形成金属膜之工程,及使用前记金属膜的溶解或氧化液,将前记金属膜的所定领域去除或高阻抗化之工程。2.如申请专利范围第1项之附有金属后背之萤光面的形成方法,其中前记金属膜位于前记光吸收层之上方领域之至少一部份,被覆溶解、或氧化该金属膜之液者。3.如申请专利范围第1项及第2项之附有金属后背之萤光面的形成方法,其中前记金属膜的溶解或氧化液,使用pH5.5以下之酸性溶液或pH9以上的硷性溶液。4.如申请专利范围第1项之附有金属后背之萤光面的形成方法,其中将前记金属膜之一部份去除或使其高阻抗化后,该金属膜之残留端部上,披覆具有黏着性的绝缘性或高阻抗性之无机材料。5.如申请专利范围第1项之附有金属后背之萤光面的形成方法,其中前记金属膜的溶解或氧化液,使用在pH5.5以下之酸性溶液或pH9以上的硷性溶液中,添加具有黏着性的绝缘性或高阻抗性之无机材料所成之混合液,在该混合液涂布部分之前记金属膜被去除或高阻抗化的同时,该金属膜之残留端部会被前记无机材料所披覆。6.一种画像显示装置,属于在萤光屏内面,具备附有金属后背光之萤光面之画像显示装置,其特征系前述附有金属背光之萤光面,具有于萤光屏内面中,光吸收层和萤光体层以特定之图案加以排列的萤光面,和形成于前述萤光面之上的金属膜;且此金属膜具有经由溶解或氧化该金属膜之液所形成之溶解除去部或高阻抗部。7.一种画像显示装置,具备具有萤光屏和与该萤光屏对向配置之前屏极的外围器,和形成于前述前屏极上之多数之电子释放元件,和于前述萤光屏上对向于前述屏极加以形成,经由从前述电子释放元件释放出电子线而发光之萤光面的画像显示装置中,其特征系前述萤光面,在萤光屏内面中,光吸收层和萤光体层以特定之图案加以排列的同时,于其上具有金属膜,且此金属膜具有经由溶解或氧化该金属膜之液所形成之溶解除去部或高阻抗部。8.如申请专利范围第6项或第7项之画像显示装置,其中,该金属膜之溶解除去部或高阻抗部,形成于位于前述光吸收层上之范围的至少一部分。9.如申请专利范围第6项或第7项之画像显示装置,其中,于前述金属膜之溶解除去部或高阻抗部之上,具有拥有黏着性之绝缘性或高阻抗性之无机材料之被覆部。图式简单说明:图1系本发明之第1实施形态所形成之附有金属后背之萤光面的构造示意图。图2系将第1实施形态之附有金属后背之萤光面作为阳极电极之FED的构造剖面图。图3系具有第1实施形态之附有金属后背之萤光面的FED中,放电电流之经时变化的图表。图4系具备本发明之实施例1所形成之附有金属后背之萤光面的彩色FED的斜视图。 |
