| 发明名称 |
Method and apparatus for an improved baffle plate in a plasma processing system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003276601(A8) |
申请公布日期 |
2004.04.19 |
| 申请号 |
AU20030276601 |
申请日期 |
2003.09.29 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TAIRA TAKASE;HIROYUKI NAKAYAMA;HIDEHITO SAIGUSA;KOUJI MITSUHASHI |
| 分类号 |
H01J37/32;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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