一种玻璃镀膜用混合气体及其制备方法

摘要

本发明公开了一种以化学气相沉积法(CVD)在玻璃表面在线制备纳米硅复合功能薄膜所必须的玻璃镀膜用混合气体及其制备方法，该混合气体由基质气体SiH₄和N₂以及掺杂气体CO₂、N₂O、C₂H₄、B₂H₆和PH₃中的任一种或几种组成。由于混合气体中引入掺杂气体，因此能够较为方便地控制硅纳米复合功能薄膜中的硅晶粒大小，改进薄膜的阳光控制功能，并起到了一定的装饰效果。采用本发明的混合气体可简化薄膜的制备工艺，降低薄膜的制备成本。混合气体制备过程中采用的恒温压力配比法有效地解决了通常在混合气体配比过程中由于将真实气体作为理想气体处理而产生误差的问题，做到了混合气体中各组成气体的精确配比。

主权项

1.玻璃镀膜用混合气体，其特征是由基质气体SiH4和N2以及掺杂气体CO2、N2O、C2H4、B2H6和PH3中的任一种或几种组成，各组分含量分别为(按体积百分比)：SiH4 2％～50％N2 40％～97％CO2 0％～5％，N2O 0％～9％C2H4 0％～10％B2H6 0％～10％PH3 0％～5％其中掺杂气体的用量大于0、占混合气体总量的10％以下，各组分含量百分数之和等于100％。