| 主权项 |
1.一种聚合物,其具有如下通式(1)表示之重复单位: 其中Z为至少一个选自如下通式(2)及(3)表示之二价 芳香族基组成的组群之二价芳香族基: 其中R1及R2各自分别表示单键、-O-、-CO-、-CH2-、- COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、伸苯基、伸芴基、或下式 表示之二价基 R3.R4.R5及R6各自分别表示含1至20个碳原子之烃基、 氰基、硝基、含1至20个碳原子之烷氧基,或芳基;a 为1至3之整数;以及b、c、d及e各自分别为0至4之整 数,以及Y为至少一个选自如下通式(4)及(5)表示之 二价芳香族基组成的组群之二价芳香族基: 其中R7及R8各自分别表示单键、-O-、-CO-、-CH2-、- COO-、-CONH-、-S-、-SO2-、伸苯基、伸芴基;R9.R10.R11 及R12各自分别表示含1至20个碳原子之烃基、氰基 、硝基、含1至20个碳原子之烷氧基,或芳基;f为0至 3之整数;以及g、h、i及j各自分别为0至4之整数。2. 如申请专利范围第1项之聚合物,其具有-O-或-CO-于 聚合物主链。3.一种制造如申请专利范围第1项之 聚合物之方法,该方法包含聚合至少一种选自下式 (6)及(7)表示之化合物组成的组群之化合物: 其中R1.R2.R3.R4.R5.R6.a、b、c、d及e具有如申请专利 范围第1项就通式(1)所述定义;以及X表示卤原子, 以及至少一种选自如下通式(8)及(9)表示之化合物 组成的组群之化合物: 其中R7.R8.R9.R10.R11.f、g、h、i及j具有如申请专利范 围第1项就通式(1)所述定义, 该聚合反应系于催化剂存在下进行。4.如申请专 利范围第3项之方法,其中,该催化剂包含过渡金属 化合物及硷性化合物。5.一种薄膜形成用组成物, 其含有如申请专利范围第1项之聚合物。6.一种薄 膜形成之方法,包含施用如申请专利范围第5项之 薄膜形成用组成物至基板及然后硬化所得涂膜。7 .一种绝缘膜,其系经由如申请专利范围第6项之薄 膜形成之方法所制成。图式简单说明: 图1为代表图显示实施例2所得聚合物之1H-NMR光谱; 以及 图2为代表图显示实施例2所得聚合物之IR光谱。 |
