| 发明名称 |
FLUORINE-FREE METALLIC COMPLEXES FOR GAS-PHASE CHEMICAL METAL DEPOSITION |
| 摘要 |
<p>The invention concerns novel copper (I) or silver (I) complexes and their use for gas-phase chemical deposition of metal copper or silver almost free of impurities.</p> |
| 申请公布号 |
WO2004029061(A1) |
申请公布日期 |
2004.04.08 |
| 申请号 |
WO2003FR02820 |
申请日期 |
2003.09.25 |
| 申请人 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE;DOPPELT, PASCAL |
发明人 |
DOPPELT, PASCAL |
| 分类号 |
C07F1/00;C07F1/08;C07F7/08;(IPC1-7):C07F1/00;C07F1/10;C23C16/18 |
主分类号 |
C07F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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