发明名称 本体聚合物/剥离型纳米蒙脱土复合物的制备方法
摘要 本发明涉及一种制备本体聚合物/剥离型纳米蒙脱土复合物的新方法,该方法包括如下步骤:(a)、在液态或粘流态的聚合物中加入有机蒙脱土,搅拌分散,其中液态或粘流态的聚合物与有机蒙脱土的重量比为100∶0.1-80;(b)、将经(a)简单分散的液态聚合物/蒙脱土复合物在锥体磨或胶体磨中研磨分散,其中定子与转子之间的间距为1-50μm,研磨时间为20-120分钟。该方法不使用水和其它有机溶剂,简化了生产工艺,在常温下就可以实现,大大降低了成本与能耗,且分散在聚合物中的蒙脱土是剥离结构,能实现真正的纳米分散。
申请公布号 CN1487027A 申请公布日期 2004.04.07
申请号 CN03139786.7 申请日期 2003.07.11
申请人 中国科学院广州化学研究所 发明人 庞浩;黄文勇;廖兵;胡美龙;林果;赵树录
分类号 C08L71/00;C08L67/00;C08L75/04;C08L83/00;C08L23/00;C08L33/00;C08K3/34 主分类号 C08L71/00
代理机构 广州科粤专利代理有限责任公司 代理人 余炳和
主权项 1、一种本体聚合物/剥离型纳米蒙脱土复合材料的制备方法,包括如下步骤:(a)、在液态或粘流态的聚合物中加入粒径为30-200μm、阳离子交换容量为50-200毫克当量/100克土、层间距为1.1-3.0nm的有机蒙脱土,搅拌分散,其中液态或粘流态的聚合物与有机蒙脱土的重量比为100∶0.1-80;(b)、将经(a)简单分散的液态聚合物/蒙脱土复合物在锥体磨或胶体磨中研磨分散,其中定子与转子之间的间距为1-50μm,研磨时间为20-120分钟。
地址 510650广东省广州市天河区五山乐意居