曝光后特性改善的193奈米光阻剂193NM RESIST WITH IMPROVED POST-EXPOSURE PROPERTIES

摘要

一种能够以193奈米电磁波及／或其它可能的电磁波影像化并显影形成显影特征改善及蚀刻阻抗改善的光阻结构之酸催化正型光阻组合物，此酸催化正型光阻组合物系使用含有一影像聚合物成份(imagingpolymercomponent)之光阻组合物，此影像聚合物成份包含一具有一单体单元(monomericunit)之一酸敏感聚合物(acid-sensitivepolymer)，此单体单元有一具远端酸不安定部分体(remoteacidlabilemoiety)之悬垂基(pendantgroup)。