| 主权项 |
1.一种扫描方法,适用于一具有透射扫描功能之平台式扫描器,其中该平台式扫描器具有一光学扫描模组以及一原稿面,而该原稿面系用以放置一透射稿,且该光学扫描模组系沿着该原稿面移动,该扫描方法包括:放置该透射稿于该原稿面上;提供一面光源,该面光源含盖该透射稿之欲扫描区域;利用该光学扫描模组扫描该原稿面一遍,以读取该面光源的分布范围;以及该光学扫描模组仅扫描该面光源所含盖的区域,用以撷取该透射稿之影像。2.如申请专利范围第1项所述之扫描方法,其中该透射稿系以任意角度放置于该原稿面之任意位置上。3.如申请专利范围第1项所述之扫描方法,其中该面光源系由一外接式光罩所提供。4.如申请专利范围第3项所述之扫描方法,其中该外接式光罩系放置于该原稿面之上。5.如申请专利范围第1项所述之扫描方法,其中该面光源系由一内建式光罩所提供。6.如申请专利范围第5项所述之扫描方法,其中该内建式光罩系放置于该原稿面之上。7.如申请专利范围第1项所述之扫描方法,其中在利用该光学扫描模组扫描该原稿面一遍的步骤中,更包括提供一校正视窗,以做为该光学扫描模组通过该校正视窗时校正该面光源之用。8.一种抓取扫描位置的方法,适用于一具有透射扫描功能之平台式扫描器,其中该平台式扫描器具有一光学扫描模组以及一原稿面,而该原稿面系用以放置一透射稿,且该光学扫描模组系沿着该原稿面移动,该抓取扫描位置的方法包括:提供一面光源,该面光源含盖该透射稿之欲扫描区域;以及利用该光学扫描模组扫描该原稿面一遍,以读取该面光源的分布范围,并抓取该透射稿之位置。9.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中该透射稿系以任意角度放置于该原稿面之任意位置上。10.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中该面光源系由一外接式光罩所提供。11.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中该外接式光罩系放置于该原稿面之上。12.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中该面光源系由一内建式光罩所提供。13.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中该内建式光罩系放置于该原稿面之上。14.如申请专利范围第8项所述之抓取扫描位置的方法,其中在利用该光学扫描模组扫描该原稿面一遍的步骤中,更包括提供一校正视窗,以做为该光学扫描模组通过该校正视窗时校正该面光源之用。图式简单说明:第1图绘示习知具有透射扫描功能之扫描器;第2图绘示习知透射扫描之光罩与透射稿定位片的配置图;第3图绘示本发明一较佳实施例之具有透射扫描功能之扫描器的配置图;第4图绘示本发明一较佳实施例之透射稿与光罩的配置图;以及第5图绘示本发明一较佳实施例之一种扫描方法的流程示意图。 |
