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发明名称 MASKENMUSTER FÜR DAS HOCHGESCHWINDIGKEITSTINTENSTRAHLDRUCKEN
摘要
申请公布号 DE60008598(D1) 申请公布日期 2004.04.01
申请号 DE20006008598 申请日期 2000.12.15
申请人 ENCAD, INC. 发明人 HAFLINGER, JAMES
分类号 B41J2/01;B41J2/05;B41J2/21;G06K15/10;(IPC1-7):G06K15/10 主分类号 B41J2/01
代理机构 代理人
主权项
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