发明名称 氮化镓系Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体器件
摘要 一种氮化镓系III-V族化合物半导体器件,其特征在于包括:具有第一和第二主表面的衬底;形成在所述衬底的第一主表面上、包括n型氮化镓系III-V族化合物半导体层和p型氮化镓系III-V族化合物半导体层的半导体叠层结构;在除去设置在所述n型半导体层上的p型层后露出的n型层上形成的第一电极;以及形成在所述p型半导体层上的第二电极;其中,所述第二电极具有从由铬、镍、金、钛、铂构成的一组中选出的至少二种材料的金属材料。
申请公布号 CN1484326A 申请公布日期 2004.03.24
申请号 CN03145869.6 申请日期 1994.04.28
申请人 日亚化学工业株式会社 发明人 中村修二;山田孝夫;妹尾雅之;山田元量;板东完治
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.氮化镓系III-V族化合物半导体器件,其特征在于包括:具有第一和第二主表面的衬底;形成在所述衬底的第一主表面上、包括n型氮化镓系III-V族化合物半导体层和p型氮化镓系III-V族化合物半导体层的半导体叠层结构;在除去设置在所述n型半导体层上的p型层后露出的n型层上形成的第一电极;以及形成在所述p型半导体层上的第二电极;其中,所述第二电极具有从由铬、镍、金、钛、铂构成的一组中选出的至少二种材料的金属材料。
地址 日本德岛县