发明名称 带有静电放电保护结构的减少了电容的晶体管及其制造方法
摘要 公开了一种用于提供能用标准工艺来制造的、带有ESD保护的减少了电容的晶体管的方法和装置。该晶体管包括:衬底(310);在该衬底内形成的源区(340);以及也在该衬底内形成的阱区。该晶体管还包括具有第1终端区、第2终端区和位于该第1与第2终端区之间的电阻性区域的漏区(320)。该漏区至少部分地在该阱区内形成。漏接点在该漏区的第1终端区上形成。在该源区与该漏区的第2终端区之间的该衬底上形成栅结构(330)。该栅结构界定将源区连接到漏区的沟道区。
申请公布号 CN1143387C 申请公布日期 2004.03.24
申请号 CN98812384.3 申请日期 1998.10.27
申请人 英特尔公司 发明人 M·J·阿伦
分类号 H01L23/62;H01L29/788 主分类号 H01L23/62
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨凯;王忠忠
主权项 1.一种带有静电放电 保护的减少了电容的晶体管,其特征在于,包括:衬底;在上述衬底内形成的源区;包括第1终端区和第2终端区的漏区,上述漏区还包括在上述第1终端区与上述第2终端区之间的电阻性区域,形成该电阻性区域的材料跟第1和第2终端区的相同;在上述衬底内形成的阱区,所述阱区在漏区的第1终端区之下,在漏区的电阻性区域之下,并至少有部分在第2终端区之下;在上述漏区的上述第1终端区上形成的漏接点;以及栅结构,形成在上述源区与上述漏区的第2终端区之间的上述衬底上,上述栅结构界定将上述源区连接到上述漏区的沟道区。
地址 美国加利福尼亚州