发明名称 | 物理汽相淀积靶及制造金属材料的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种物理汽相淀积靶,该靶由面心立方单位晶格的金属或合金构成,其平均晶粒尺寸小于30微米,最好是小于1微米;并具有均匀的轴向或平面<220>晶体结构。本发明还公开了一种制造溅射靶的方法。该方法包括制备坯料;以预定的路径和次数进行等槽角挤压;并在等槽角挤压之后进行交叉轧制或锻造。 | ||
申请公布号 | CN1484711A | 申请公布日期 | 2004.03.24 |
申请号 | CN01821701.X | 申请日期 | 2001.10.26 |
申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | V·塞加尔;S·费尔拉泽;F·E·阿尔福特 |
分类号 | C23C14/34;C22F1/00;H01J37/34 | 主分类号 | C23C14/34 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
主权项 | 1.一种物理汽相淀积靶,该靶包括具有面心立方单位晶格的材料,该靶具有溅射表面,并包括:分布在整个溅射表面上的主<220>结晶晶体结构;以及整个溅射表面上的平均晶粒尺寸小于或等于约30微米。 | ||
地址 | 美国新泽西州 |