发明名称 用于涂覆膜制造之极化曝光
摘要 提供一种系统,其中可使用一延伸、非准直光源来产生一供使用于例如光学薄膜之光对齐中之一致极化光线。即使在使用紫外光之高强度来源时仍可维持极化和强度之一致性。可放大系统之尺寸以产生大的曝光而不会牺牲强度之一致性或极化方向之一致性。系统包括一光源、一平板堆极化器以及一待曝光之表面(诸如一光学薄膜之表面)。平板堆极化器方位为与表面垂直,藉此提供一在曝光表面上具有一致之极化方向的极化光曝光。光源方位可与极化器成Brewster角以改进极化对比。描述系统之其他可选择的特性,以供增加强度以及改进极化光曝光之强度之一致性用,以及用以产生在表面上具有不同方位之极化光曝光。
申请公布号 TW580552 申请公布日期 2004.03.21
申请号 TW091119108 申请日期 2002.08.23
申请人 宝丽来公司 发明人 乔塞夫 戴尔皮柯;以吾司G 康突里
分类号 F21V9/14;G02B27/00 主分类号 F21V9/14
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种极化曝光系统,其包含: 一极化器,其包含至少一极化平板,其中一入射在 该至少一极化平板上的非准直光源光束被极化,以 生成一极化光束;以及 一大致垂直于至少一极化平板且定位在极化光束 之光学路径中之表面,藉此极化光束入射在表面上 以产生具有横跨表面大致一致之极化方向的极化 光曝光。2.如申请专利范围第1项之极化曝光系统, 进一步包含一光源以发出光源光束。3.如申请专 利范围第2项之极化曝光系统,其中光源包含一延 伸光源。4.如申请专利范围第2项之极化曝光系统, 其中至少一极化平板定位成与光源之轴成约 Brewster角。5.如申请专利范围第1项之极化曝光系 统,其中光源光束为紫外光束。6.如申请专利范围 第1项之极化曝光系统,其中极化器包含一平板堆 极化器。7.如申请专利范围第6项之极化曝光系统, 其中至少一极化平板包含多个极化平板。8.如申 请专利范围第7项之极化曝光系统,其中多个极化 平板包括一最近于表面且指向大致垂直于表面之 极化平板,且其中非最接近表面之多个极化平板中 至少之一者并未指向大致垂直于表面。9.如申请 专利范围第7项之极化曝光系统,其中至少一极化 平板包含一单一极化平板。10.如申请专利范围第1 项之极化曝光系统,其中至少一极化平板包含至少 一穿透性极化平板。11.如申请专利范围第1项之极 化曝光系统,其中至少一极化平板包含至少一反射 性极化平板。12.如申请专利范围第1项之极化曝光 系统,其中对极化光束之曝光将在表面上的分子对 齐于极化光束之极化平面之方向。13.如申请专利 范围第1项之极化曝光系统,其中表面包含一光学 薄膜之表面,其具有一线性光聚合材料之涂覆。14. 如申请专利范围第13项极化曝光之系统,其中系统 之方位定义为介于涂覆膜之对称平面(包含其法线 及其行进方向)以及入射平面(包含涂覆膜之法线 和入射光线之光轴)之间的角度,且其中方位为介 于0和45度。15.如申请专利范围第13项之极化曝光 系统,其中系统之方位定义为介于涂覆膜之对称平 面(包含其法线及其行进方向)以及入射平面(包含 涂覆膜之法线和入射光线之光轴)之间的角度,且 其中方位为介于45和90度。16.如申请专利范围第1 项之极化曝光系统,其中表面包含一液晶格子之表 面。17.如申请专利范围第1项之极化曝光系统,其 进一步包含一配置于光源光束和极化器之间的第 一镜片。18.如申请专利范围第1项之极化曝光系统 ,其中表面包含一虚拟表面,其为由一实际表面之 光学元件所形成的影像。19.如申请专利范围第18 项之极化曝光系统,其中光学元件包含一镜子。20. 如申请专利范围第18项之极化曝光系统,其中表面 平行于系统之对称轴。21.如申请专利范围第1项之 极化曝光系统,其中介于该至少一极化平板和表面 之法线之间的角度为介于-5和+5度之间。22.一种极 化曝光系统,其包含: 一延伸光源,以发出一非准直光源光束; 一平板堆极化器,其包含至少一穿透性极化平板, 其配置于光源光束之光学路径之中以生成一极化 光束;以及 一大致指向垂直于至少一极化平板且位于极化光 束之光学路径中之表面,藉此极化光束入射于表面 上,以产生具有横跨表面大致为一致之极化方向的 极化光曝光,且其中对极化光束之曝光将表面上的 分子对齐于极化光束之极化平面之方向。23.如申 请专利范围第22项之极化曝光系统,其中至少一极 化平板指向与光源之轴成约Brewster角。24.如申请 专利范围第22项之极化曝光系统,其中光源光束为 一紫外光束。25.如申请专利范围第22项之极化曝 光系统,其中表面包含一具有线性光聚合材料之涂 覆之光学薄膜之表面。26.如申请专利范围第22项 之极化曝光系统,其中表面包含一液晶格子之表面 。27.在一包含一包括至少一极化平板之极化器之 系统中,一种方法包含下列步骤: (A)藉由提供一非准直光源光束至至少一极化平板 来生成一极化光束;以及 (B)将一表面定位于极化光束之光学路径中,其中表 面大致定位为垂直于至少一极化平板,且藉此极化 光束入射在表面上,以产生一横跨于表面具有一大 致一致之极化方向之极化光曝光。28.如申请专利 范围第27项之方法,其中表面包含一光学补偿薄膜 之表面。29.如申请专利范围第27项之方法,其中表 面包含一液晶格子之表面。图式简单说明: 图1A为一根据本发明之一实施例产生一下涂覆膜 曝光之光对齐系统之平面图。 图1B为图式1A之光对齐系统之侧视图。 图2为一根据本发明之一实施例之尺寸加大的下涂 覆膜光对齐系统之平面图。 图3A为一根据本发明之一实施例来产生一横跨涂 覆膜之曝光之光对齐系统之平面图。 图3B为一图3A之光对齐系统之侧视图。 图4A为一根据本发明之一实施例之尺寸放大的横 跨涂覆膜之光对齐系统之侧视图。 图4B为图4A之光对齐系统之平面图。 图5A为根据本发明之一实施例包括一镜之下涂覆 膜光对齐系统之平面图。 图5B为图5A之下涂覆膜光对齐系统之侧视图。 图6A为根据本发明之一实施例包括一镜之横跨涂 覆膜光对齐系统之平面图。 图6B为图6A之横跨涂覆膜光对齐系统之侧视图。 图7为一说明根据本发明之光对齐系统之多个不同 的实施例中之元件之间的几何关系之图形。
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