发明名称 |
System und Verfahren zum Verbessern von Justiermarken |
摘要 |
Ein Halbleiterwafer umfaßt ein Halbleitersubstrat, eine Oberflächenjustiermarke (3), die auf der Halbleiteroberfläche sichtbar angeordnet ist, und mehrere Nanostrukturen (10) auf der Oberfläche der Oberflächenjustiermarke (3) mit einem mittleren Mittenabstand (p), der so ausgelegt ist, daß er den Reflexionsgrad der Oberflächenjustiermarke (3) für eine vorbestimmte Lichtbandbreite reduziert.
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申请公布号 |
DE10339986(A1) |
申请公布日期 |
2004.03.18 |
申请号 |
DE20031039986 |
申请日期 |
2003.08.29 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
ZAIDI, SHOAIB HASAN;GUTMANN, ALOIS;WILLIAMS, GARY |
分类号 |
G03F9/00;H01L23/544;(IPC1-7):H01L23/544;G05D3/00 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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