| 发明名称 | 确定晶片对准标记外围辅助图形的方法及所用光刻胶掩模 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种在晶片对准标记外围确定辅助图形的方法。首先，提供具有对准区的晶片，对准区中设置有一对准标记。然后，藉由一光刻胶掩模来进行曝光，以在对准区上的对准标记外围确定一第一辅助图形。此光刻胶掩模具有一第一辅助图形区，第一辅助图形区具有一第一图形来遮蔽该对准标记，及一第二图形来确定第一辅助图形。而且，此光刻胶掩模还包括一第二辅助图形区，具有一第三图形，用以在第一辅助图形的外围确定一第二辅助图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1480985A | 申请公布日期 | 2004.03.10 |
| 申请号 | CN02131997.9 | 申请日期 | 2002.09.04 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 何溓泽;林鼎章;丁茂益 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈红;楼仙英 |
| 主权项 | 1.确定晶片对准标记外围确定辅助图形用光刻胶掩模，包括：一第一辅助图形区，该第一辅助图形区具有一第一图形，用以遮蔽该对准标记，及一第二图形，用以在该对准标记的外围确定一第一辅助图形。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹 | ||