发明名称 | 磁控式摇摆扫瞄型溅镀机 | ||
摘要 | 本发明公开了一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机,是由溅镀靶、基座以及长形磁铁所组成,溅镀靶的表面设有靶材并与基座相对应,靶材在经过溅镀之后是沉积于基座之上,而长形磁铁则是设置于溅镀靶的背面,并以来回摇摆方式控制靶材的沉积,其中长形磁铁在其二端是分别设有消磁装置,其可以避免长形磁铁二端的磁场强度过强而对溅镀的品质造成影响。 | ||
申请公布号 | CN1480557A | 申请公布日期 | 2004.03.10 |
申请号 | CN02132236.8 | 申请日期 | 2002.09.03 |
申请人 | 瀚宇彩晶股份有限公司 | 发明人 | 邓敦和;李正中 |
分类号 | C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/35 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄志华 |
主权项 | 1.一种磁控式摇摆扫瞄型溅镀机,适用于一反应室,其特征在于包括:一溅镀靶,正面具有一靶材;一基座,与上述溅镀靶相对应,用以沉积经溅镀后的上述靶材;一长形磁铁,设置于上述溅镀靶的背面,并以来回摇摆方式控制上述基座表面的上述靶材的沉积;以及一消磁装置,设置于上述长形磁铁的二端,用以减弱上述长形磁铁二端的磁场强度。 | ||
地址 | 台湾省桃园县 |