摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Inspektion eines Objekts (2), mit einem bezüglich einer Abbildungsoptik (3) ausgebildeten Hellfeld-Beleuchtungsstrahlengang (4) einer Hellfeld-Lichtquelle (5), mit einem bezüglich der Abbildungsoptik (3) ausgebildeten Dunkelfeld-Beleuchtungsstrahlengang (6) einer Dunkelfeld-Lichtquelle (7), wobei das Objekt (2) mit der Abbildungsoptik (3) auf mindestens einen Detektor (8) abbildbar ist und wobei das Objekt (2) von den beiden Lichtquellen (5, 7) simultan beleuchtet ist. Zur simultanen Detektion von Hellfeld- und Dunkelfeldbildern und ohne aufwändige Filteroperationen ist die erfindungsgemäße Vorrichtung bzw. das Verfahren zur Inspektion eines Objekts (2) dadurch gekennzeichnet, dass das zur Dunkelfeldbeleuchtung dienende Licht gepulst ist und dass die Pulsintensität des zur Dunkelfeldbeleuchtung dienenden Lichts um mindestens eine Größenordnung größer ist als die auf ein Pulsintervall bezogene Intensität des zur Hellfeldbeleuchtung dienenden kontinuierlichen Lichts.</p> |
申请人 |
LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH;CEMIC, FRANZ;DANNER, LAMBERT;GRAF, UWE;MAINBERGER, ROBERT;SOENKSEN, DIRK;KNORZ, VOLKER |
发明人 |
CEMIC, FRANZ;DANNER, LAMBERT;GRAF, UWE;MAINBERGER, ROBERT;SOENKSEN, DIRK;KNORZ, VOLKER |