| 发明名称 |
Process and apparatus for pulsed dc magnetron reactive sputtering of thin film coatings on large substrates using smaller sputter cathodes |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003265503(A8) |
申请公布日期 |
2004.03.03 |
| 申请号 |
AU20030265503 |
申请日期 |
2003.08.18 |
| 申请人 |
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA |
发明人 |
STEVEN REX BRYAN;D. WOLFE JESSE |
| 分类号 |
C23C14/00;C23C14/35;G01N33/533;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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