发明名称 | 化学气相沉积与渗透工艺先驱体供给及监控设备 | ||
摘要 | 本发明涉及一种适用于工业化生产的CVD/CVI工艺先驱体供给与监控设备,也可用于其他工业化腐蚀性液体的供给与监控。本发明将先驱体贮存罐与鼓泡瓶连接,实现CVD/CVI设备供气系统的全封闭。采用与鼓泡瓶相连的石英玻璃腔,作为先驱体监控与观察的窗口。采用浮球连杆装置,直接反映先驱体液位的高度。利用鼓泡瓶中的微负压和贮存罐中的微正压,作为先驱体供给的驱动力。通过液位信息的采集与比较,实现CVD/CVI过程中先驱体的自动供给、监控与适时观察,保持先驱体液位的恒定,彻底消除先驱体对大气的污染和对人体的危害,显著提高产品质量。 | ||
申请公布号 | CN1140651C | 申请公布日期 | 2004.03.03 |
申请号 | CN99115910.1 | 申请日期 | 1999.11.17 |
申请人 | 西北工业大学 | 发明人 | 成来飞;徐永东;张立同;刘小瀛 |
分类号 | C23C16/52 | 主分类号 | C23C16/52 |
代理机构 | 西北工业大学专利中心 | 代理人 | 黄毅新 |
主权项 | 1、CVD/CVI工艺先驱体的供给与监控设备,该设备主要由鼓泡瓶、贮存罐、石英玻璃腔、浮球连杆装置、液位显示与控制系统、先驱体控制阀、气体流量控制阀等部分组成,其特征在于:采用全封闭的CVD/CVI供气系统,实现先驱体的自动供给、监控与适时观察。 | ||
地址 | 710072陕西省西安市友谊西路127号 |