发明名称 |
Formação de modelo metálico |
摘要 |
"FORMAçãO DE MODELO METáLICO". Um método de produzir-se reprodutivamente condutores de circuito com estruturas de circuito muito finas e um verniz eletroforético a ser aplicado neste método são descritos, nos quais um substrato dielétrico compreendendo uma superfície de metal base é fornecido. Uma camada de verniz é aplicada à superfície do substrato eletrodepositando o verniz eletroforético, portanto a camada de verniz sofre ablação em pelo menos partes das regiões que não correspondem ao modelo metálico a ser formado por meio de radiação ultravioleta, a superfície do metal base sendo deixada descoberta, e finalmente a superfície do metal base descoberta é causticada.
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申请公布号 |
BR0207882(A) |
申请公布日期 |
2004.03.02 |
申请号 |
BR20020007882 |
申请日期 |
2002.02.12 |
申请人 |
ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. |
发明人 |
HEIRINCH MEYER;UDO GRIESER |
分类号 |
G03F1/00;H05K3/00;H05K3/06;H05K3/46;(IPC1-7):H01L21/321;H05K3/24 |
主分类号 |
G03F1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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