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经营范围
发明名称
Optisches Projektionssystem für maskenlose Lithographie
摘要
申请公布号
DE602004017385(D1)
申请公布日期
2008.12.11
申请号
DE200460017385T
申请日期
2004.06.22
申请人
ASML HOLDING, N.V.
发明人
SMIRNOV, STANISLAV;OSKOTSKY, MARK
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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