具有射频电源供应单元之双频式真空沈积设备

摘要

本发明提供一种具有一个射频电源供应单元之双频式真空沉积设备。为简化气密腔中的下电极结构，在该双频式真空沉积设备中，只安装一个射频电源供应单元。此外，藉由使用一个开关，从射频电源供应单元所输出的射频电源，可交替地供应至上电极及下电极，因此可轻易执行清洁处理及薄膜沉积处理。