| 主权项 |
1.一种利用斜率继承以平滑图形外框之方法,在一显示平面具有复数个像素,且每一该些像素皆对应一亮度値,其中有一二维空间系用以描述该些像素之位置与该些亮度値之间之相对关系,其中该二维空间之x轴系描述该些像素之位置,y轴系插述该些像素分别对应之该些亮度値,在该二维空间之x轴中至少包括一区间,该区间包括一起始位置及一结束位置,该利用斜率继承以平滑图形外框之方法步骤包括:利用通过一第一像素在该起始位置所对应之该亮度値,求得一切线向量;以及利用该第一像素在该起始位置所对应之该亮度値、一第二像素在该结束位置所对应之该亮度値及该切线向量,得到在该区间之一二次曲线方程式;其中,当使用者下达缩放图形之命令后,该区间会随着一缩放比例,被复数个切分点切分成复数个等份,该些切分点利用该二次曲线方程式可以得到相对应之该些亮度値,每一该些切分点之该亮度値会一一对应于该显示平面上之该些像素。2.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中在该显示平面上之每一个该像素与位于该像素四周之该些像素,系维持等距的距离。3.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中在该二维区间之x轴中所包括之复数个区间,会部分重叠。4.如申请专利范围第3项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中重叠之方式,系前一个该区间与后一个该区间会有部分重叠。5.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中每一个该区间皆至少有一个该二次曲线方程式产生。6.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中当该使用者下达该缩放比例之命令时,会有复数个区间皆需依该缩放比例,被复数个切分点切分成复数个等份。7.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中该二次曲线方程式会经过该起始位置及该结束位置分别对应之该些亮度値。8.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中该利用斜率继承以平滑图形外框之方法亦适用在资料解析度之改变。9.如申请专利范围第1项所述之利用斜率继承以平滑图形外框之方法,其中该利用斜率继承以平滑图形外框之方法亦适用于利用已知之一离散原始点,求得一适当连续趋势线。图式简单说明:第1图绘示的是习知之一示意图;第2图绘示的是本发明之一流程图;以及第3图绘示的是本发明之一示意图。 |
