| 主权项 |
1.一种图案描绘装置,在基板上形成同心圆状配列之复数磁轨并描绘二次元图案,其特征为具有图案产生机构:在1磁轨之至少2处部位重复以正或反方式配列(arrange)各磁轨之基本的基本像素列,并针对连续复数磁轨执行前述处理,产生形成前述二次元图案之像素列资料;调变机构:依据前述像素列资料实施扫描前述基板之描绘光束的调变;以及,光束位置设定机构:同步设定前述像素列资料之前述描绘光束在前述基板上的扫描位置。2.如申请专利范围第1项之图案描绘装置,其中,前述基板在圆周方向上,画定分割成复数个扇区、及由此扇区之1个或连续之复数个组合而成的群集区,同时含有复数之前述群集区,而描绘光束扫描前述群集区之磁轨上时,前述图案产生机构会输出前述基本像素列。3.如申请专利范围第1项之图案描绘装置,其中,前述图案产生机构会在前述基本像素列之间,配列(arrange)不形成图案之模拟像素列。4.如申请专利范围第2项之图案描绘装置,其中,前述图案产生机构在前述群集区以外之扇区的磁轨上,配列不形成图案之模拟像素列。5.如申请专利范围第1项之图案描绘装置,其中,前述磁轨为利用依据前述像素列资料调变之描绘光束进行基板之旋转扫描所得的轨迹。6.一种图案描绘体之制造方法,为在基板上形成同心圆状配列之复数磁轨,并描绘二次元图案,其特征为,在1磁轨之至少2处部位重复以正或反方式配列各磁轨之基本的基本像素列,并针对连续复数磁轨执行前述处理,形成前述二次元图案。7.如申请专利范围第6项之图案描绘体的制造方法,其中,前述基板圆周方向画定分割成复数个扇区、及由此扇区之1个或连续之复数个组合而成的群集区,前述基板上含有复数之前述群集区,前述基本像素列配列于前述群集区之磁轨上。8.如申请专利范围第7项之图案描绘体的制造方法,其中,前述群集区以外之扇区的磁轨上,配列不形成图案之模拟像素列。图式简单说明:图1为本发明图案描绘装置之整体构成的机能方块图。图2为图案产生器40之构成实例的方块图。图3为记忆体404之内部区域使用实例的说明图。图4为第1图案描绘实例的说明图。图5为描绘第1图案时之扇区、群集之构成实例的说明图。图6为从记忆体控制器405之记忆体404读取资料之动作的流程图。图7为资料输出之处理的流程图。图8为扇区之最终点以外之处理的流程图。图9为群集之最终点以外之处理的流程图。图10为群集之最终点处理的流程图。图11为磁轨之最终点处理的流程图。图12为产生资料传送要求信号之流程图。图13为记忆体之读取记忆库切换的流程图。图14为第2图案描绘实例之说明图。图15为描绘第2图案时之扇区、群集实例的说明图。图16为描绘第2图案之扇区最终点以外之处理的流程图。图17为描绘第2图案之磁轨最终点处理的流程图。图18为描绘第2图案之群集最终点处理的流程图。图19为描绘第2图案之群集最终点以外之处理的流程图。 |
