用于制造高度积体电路装置之光罩,产生该光罩之布局之方法,该光罩之制造方法,以及使用该光罩用于高度积体电路装置之制造方法

摘要

本发明提供一组光罩，其包括一交错相位变移光罩（APSM）及一半色调相位变移修正光罩（HPSTM）。APSM包括第一及第二相位变移区以及一第一不透明图案，第一及第二相位变移区系设置相邻且具有不同相位以产生破坏性光干涉。此外，第一及第二相位变移区定义一存取互连线。第一不透明图案形成于一第一透明基板上，以定义第一及第二相位变移区。HPSTM包括一第二不透明图案于一第二透明基板上以及一半色调图案，第二不透明图案防止存取互连线遭到抹除，半色调图案则定义一传送互连线以连接于存取互连线。