| 发明名称 | 化学增强的正型辐射敏感树脂组合物 | ||
| 摘要 | 在具有高敏感性和高分辨率的正型化学增强的辐射敏感性树脂组合物中(该组合物包含：用酸不稳定的保护基团保护的碱不溶性或碱微溶性树脂和辐射时经光照产生酸的化合物)，在电路图案中孤立和密集图案的分辨率线宽的差值(其中孤立和密集图案混合)可以通过使用下述树脂组合物而减少，该树脂组合物包括：具有可使保护基断裂的25Kcal/mole或更高的活化能值(ΔE)的树脂作为酸不稳定的保护基团保护的碱不溶性或碱微溶性树脂，以及作为产酸剂的辐射时经光照产生羧酸的化合物及辐射时经光照产生磺酸的化合物的混合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1478220A | 申请公布日期 | 2004.02.25 |
| 申请号 | CN02803208.X | 申请日期 | 2002.09.24 |
| 申请人 | 克拉瑞特国际有限公司 | 发明人 | 浜田贵広;李东官;宫崎真治 |
| 分类号 | G03F7/039;G03F7/004;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种正型化学增强的辐射敏感性树脂组合物，其包含：(A)碱不溶性或碱微溶性树脂，该树脂用酸不稳定的保护基团保护，并通过断裂所述酸不稳定保护基而成为碱溶性，断裂的活化能(ΔE)为25Kcal/mole或更高，(B)辐射时经光照产生羧酸的化合物，和(C)辐射时经光照产生磺酸的化合物。 | ||
| 地址 | 瑞士穆滕茨 | ||