| 主权项 |
1.一种精密齿型快速轮廓扫描装置,系包含: 一光学投影单元,由光学透镜组与半导体雷射元件 所组成,藉由两组左右对称且各倾斜适当角度之半 导体雷射产生光源,该光源经过该光学透镜组产生 结构光图谱,而该结构光图谱再经由该光学透镜组 投射至待测物上; 一影像撷取单元,由位于不同视角之三组光学透镜 组与影像感测元件所组成,可从待测齿型撷取完整 结构光纹影像至该影像感测元件,藉由该影像感测 元件可将影像资讯输出至主控制单元; 一精密转动平台单元,主要由精密转动平台与待测 齿型夹制具所组成,藉由此单元,将待测物精密地 旋转至不同之量测截面,使三维齿型轮廓获得完整 之扫描;与 一主控制单元,连接于光学投影单元与影像撷取单 元,用以调控光学投影单元之结构光图谱输出与处 理影像撷取单元所得之影像资讯之构造者。2.如 申请专利范围第1项所述之精密齿型快速轮廓扫描 装置,其中更包含一高速影像处理器装置,用以提 供影像之撷取与处理之构造者。3.如申请专利范 围第1项所述之精密齿型快速轮廓扫描装置,其中 更包含一光强度控制器装置,可运用于调整光源强 度,以获得良好空间解析度之结构光源之构造者。 4.如申请专利范围第1项所述之精密齿型快速轮廓 扫描装置,其中该影像撷取单元之影像感测元件系 为电荷藕合元件(CCD,Charge-Coupled Device)之构造者。5 .如申请专利范围第1项所述之精密齿型快速轮廓 扫描装置,其中该光学透镜组系为光学准直镜、线 性偏光板、半圆柱镜片、光学聚焦透镜一种以上 所组成之构造者。6.如申请专利范围第1或5项所述 之精密齿型快速轮廓扫描装置,其中该光学投影单 元之入射光源系由氦氖半导体雷射产生,并依序通 过半圆柱镜片、线性偏光板与光学准直镜之构造 者。7.如申请专利范围第1或5项所述之精密齿型快 速轮廓扫描装置,其中该影像撷取单元之影像资讯 系藉光学聚焦透镜与影像感测元件所形成之构造 者。8.一种精密齿型快速轮廓扫描方法,系包含下 列步骤: 一光学投影步骤,藉由半导体雷射产生光源,该光 源经过光学透镜组形成结构光图谱,而该结构光图 谱再经过该光学透镜组,以适当设计之角度投射至 待测齿型上,使齿型之完整轮廓获得结构光之理想 投射; 一影像撷取步骤,藉由三组特殊设计之影像撷取元 件组,整合影像撷取元件之不同视角,从待测物上 撷取完整轮廓之变形结构光纹影像至影像感测元 件,且该影像感测元件可将影像资讯输出至主控制 单元;与 一三维齿型曲面轮廓之扫描步骤,待测支台齿模型 可固定于精密电动旋转台上,在同一投影截面上之 齿形轮廓,能于同一时间投影产生完整截面之结构 光图谱,并由该影像撷取单元精确取像,使齿模扫 描于180度旋转中完成。9.如申请专利范围第8项所 述之精密齿型快速轮廓扫描方法,其中更包含一高 速影像处理器装置,用以提供快速之影像撷取与处 理。10.如申请专利范围第8或9项所述之精密齿型 快速轮廓扫描方法,其中该主控制单元之步骤系包 含: 一结构光图谱产生流程,进行结构光产生与调控之 操作,以产生高空间解析之结构光图谱;与 一影像处理流程,进行影像撷取控制、影像处理与 三维轮廓计算之操作。11.如申请专利范围第10项 所述之精密齿型快速轮廓扫描方法,其中该影像处 理流程系利用三角法计算待测物之三维轮廓尺寸 。图式简单说明: 第一图系为本发明之实施例装置图 第二图系为量测探头主体详细放大图 |
