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发明名称 Analyseverfahren für wasserlösliche Verunreinigungen in einer Reinraumatmosphäre bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
摘要
申请公布号 DE19804971(B4) 申请公布日期 2004.02.19
申请号 DE19981004971 申请日期 1998.02.07
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 YOU, NAM-HEE;LEE, DONG-SOO;LEE, SUN-YOUNG;HWANG, JUNG-SUNG
分类号 H01L21/66;G01N1/22;G01N1/24;G01N1/34;G01N30/04;G01N30/88;G01N33/00;H01L21/02;(IPC1-7):G01N30/96;G01N1/28;F24F7/00;H01L21/18 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
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