发明名称 |
叠层体形成方法以及光电器件的制造方法 |
摘要 |
一种叠层体形成方法是,以具有:在基体上边形成中间层的第1工序;和在所述中间层上边形成与所述基体的粘附力比所述中间层小且反射率比所述中间层大的金属层的第2工序,所述第2工序的途中增加所述金属层的形成速度为特征。由此,提供具有良好特性,即使在高温下、潮湿下、或连续长时间使用下等也有优良的反射特性和粘附性的叠层体的形成方法和光电器件的制造方法。 |
申请公布号 |
CN1476052A |
申请公布日期 |
2004.02.18 |
申请号 |
CN03178616.2 |
申请日期 |
2003.07.17 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
近藤隆治;田村秀男;保野篤司;远山上;园田雄一;岩田益光;中山明哉;宮本祐介 |
分类号 |
H01L21/00;H01L31/18 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种叠层体形成方法,其特征是具有:在基体上边形成中间层的第1工序;和在所述中间层上边形成与所述基体的粘附力比所述中间层小且反射率比所述中间层大的金属层的第2工序,所述第2工序的途中增加所述金属层的形成速度。 |
地址 |
日本东京 |