发明名称 基材处理装置
摘要 本发明系提供一种基材处理装置,包含一基材固持件能以45度至90度的固持角度来固持基材;一输送系统可藉移动该基材固持件来输送基材;一处理腔室其内可处理该基材;一载入锁定腔室,基材在外部环境与处理腔室之间的输送过程中会暂时地停留其内;及一中间腔室设在该处理腔室与载入锁定腔室之间。该固持角度系为该基材与水平面形成的角度。该输送系统会将该基材输送于载入锁定腔室与中间腔室之间,及该中间腔室与处理腔室之间。该输送系统会沿着第一方向来输送基材,该第一方向系由载入锁定腔室至中间腔室的方向,或由该中间腔室至处理腔室的方向。该输送系统亦会沿着垂直于该第一方向之第二方向来输送该基材。
申请公布号 TW575515 申请公布日期 2004.02.11
申请号 TW090119758 申请日期 2001.08.13
申请人 阿内鲁巴股份有限公司 发明人 高桥信行
分类号 B65G1/00 主分类号 B65G1/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种基材处理装置,包含:一基材固持件乃以45至90度的固持再度来固持一基材;一输送系统可移动该基材固持件来输送基材;一处理腔室其内可处理该基材;一载入锁定腔室,基材在外部环境与该处理腔室之间的输送过程中,会暂时地停留其内;一中间腔室设在该处理腔室与载入锁定腔室之间;其中:该固持角度系由该基材与水平面所形成的角度;该输送系统会将该基材输送于该载入锁定腔室与中间腔室之间,及该中间腔室与处理腔室之间;该输送系统会沿着第一方向来输送基材,该第一方向系由该载入锁定腔室至中间腔室,或由该中间腔室至处理腔室的方向;且该输送系统会沿着垂直于该第一方向之第二方向来输送该基材。2.如申请专利范围第1项之装置,其中:该第一方向系沿着该基材的顶缘及底缘延伸的方向。3.如申请专利范围第1项之装置,其中:由该载入锁定腔室至该中间腔室的方向系相同于由该中间腔室至该处理腔室的方向;该载入锁定腔室系设在中间腔室的一侧;该处理腔室则设在中间腔室的相反侧;该输送系统会将在处理室中的基材固持件转退,而经该中间腔室送回至该载入锁定腔室。4.如申请专利范围第1项之装置,其中:由该载入锁定腔室至中间腔室的方向系相同于由该中间腔室至处理腔室的方向;该载入锁定腔室系设在该中间腔室的一侧;及有多个处理腔室沿一输送线设在该中间腔室的相反侧。5.如申请专利范围第1项之装置,其中:在该中间腔室内乃设有一加热器,可将要被送入处理腔室中处理之前的基材加热。6.如申请专利范围第1项之装置,其中:有多个载入锁定腔室系与该中间腔室并排设置。7.如申请专利范围第1项之装置,其中:该基材固持件可同时固持多个基材。8.如申请专利范围第7项之装置,其中:该基材固持件系以75度至85度的固持角度来固持基材。图式简单说明:第1图系第一实施例之装置的平面示意图;第2图系第一实施例中之基材固持件与输送系统的立体图;第3图为在中间腔室7中之输送系统的前视示意图;第4图为第一实施例之装置的操作说明示意图;第5图为第二实施例之装置的平面示意图;第6图乃示出一直线顺列式装置作为习知基材处理装置的一例;第7图乃示出一环组工具式装置作为习知基材处理装置的另一例。
地址 日本