| 发明名称 | 常压等离子处理方法及其装置 | ||
| 摘要 | 提供一种常压等离子处理方法及其装置，是在大气压附近压力下，在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，在该一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于从该等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使该处理部附近保持在特定的气体气氛下。 | ||
| 申请公布号 | CN1474882A | 申请公布日期 | 2004.02.11 |
| 申请号 | CN01818852.4 | 申请日期 | 2001.11.14 |
| 申请人 | 积水化学工业株式会社 | 发明人 | 屋良卓也;汤浅基和;本间孝治;高妻诚 |
| 分类号 | C23C16/54;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/302 | 主分类号 | C23C16/54 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种常压等离子处理方法，是在大气压附近压力下在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，于所述的一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于：从所述的等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使所述的处理部附近保持在特定的气体气氛下。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||